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7月份电巢直播计划

中国购买荷兰光刻机,又遭美国背后使坏

2021-7-22 09:51| 查看: 254| 评论: 1|原作者: |来自: 观察者网

摘要: 极紫外光刻机(EUV)是芯片工艺向7nm以下发展必不可少的工具,平均每台售价超过12亿元人民币。 中芯国际需要借助EUV制造更先进的芯片,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)也希望卖出更多的设备来摊薄研发成本。但 ...
极紫外光刻机(EUV)是芯片工艺向7nm以下发展必不可少的工具,平均每台售价超过12亿元人民币。


        中芯国际需要借助EUV制造更先进的芯片,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)也希望卖出更多的设备来摊薄研发成本。但由于美国从中作梗,双方一直无法完成交易。


        “出口管制将加快中国自主研发,15年时间里他们将做出所有的东西”“中国完全自主掌控供应链之后,欧洲供应商将彻底失去市场”,尽管阿斯麦CEO温彼得接连表达焦虑,但美国依旧选择视而不见


        据美媒《华尔街日报》7月17日报道,一位美国官员透露,拜登政府在确认EUV光刻机在科技产业中的战略价值后,选择延续特朗普时期的政策。白宫官员已与荷兰政府进行接触,并以国家安全为由要求荷兰方面限制向中国大陆出售EUV。


        报道披露,拜登正式就职还不到一个月,其国家安全顾问杰克·沙利文已就“在先进技术方面的密切合作”与荷兰方面进行交谈。美国官员透露,继续限制阿斯麦与中国大陆的合作,是沙利文的首要任务。



《华尔街日报》报道截图


        目前,全世界只有阿斯麦一家企业可以生产EUV光刻机。在全球范围内,无论是美国的英特尔、韩国的三星,还是中国台湾的台积电,都可以自由购买重达180吨的EUV去制造高端电子设备的芯片。


        但在美国压力下,荷兰政府一直没有批准向中国大陆出口EUV。美国对荷兰政府的施压早在特朗普任期内便已开始。


        据时任美国总统副国家安全顾问的查尔斯·库珀曼(Charles Kupperman)回忆,他2019年曾邀请荷兰外交官前往白宫,并向后者施压,称“忠实的盟友”不会向中国大陆出售EUV这类设备。库珀曼还警告荷兰方面,如果没有美国的零部件,阿斯麦的设备就无法运转,而白宫有权限制这些零部件向荷兰出口。


        报道援引知情人士称,限制向荷兰出口技术目前并不在白宫的讨论范围内。但美国正试图召集西方国家的联盟,就出口管制问题进行合作。此举可能对EUV光刻机以外的领域产生影响,进一步搅乱世界各地本已承压的半导体供应链。



阿斯麦NXE3400极紫外光刻机内部结构 图片来源:公司官网


        阿斯麦财报披露,过去的2020年,该公司在中国大陆的营收和出货量均创下历史新高。2021年一季度,阿斯麦共向中国大陆出货光刻系统约11台,占比15%在全球排名第三(前两名是韩国和中国台湾),但这其中并没有EUV。


        在阿斯麦CEO温彼得看来,美国的出口管制措施可能会适得其反。


        “当涉及有针对性的、具体的国家安全问题时,出口管制是一种有效的工具,”温彼得在一份声明中表示,“然而,作为更广泛的国家半导体领导战略的一部分,政府需要考虑如果这些工具过度使用,会如何通过减少研发投入来减缓中期创新。”他还补充称,在中短期内,过度使用出口管制可能会减少全球芯片制造产能,并加剧供应链问题。


        一直未批准向中国大陆出口EUV,也让中荷关系出现裂痕。《华尔街日报》援引所谓知情人士称,中方官员时常会询问荷兰政府,“为什么不授予阿斯麦将设备运往中国大陆的许可”。


        去年12月,中国驻荷兰大使馆发言人曾指出,中方坚决反对任何第三方对荷兰政府施加政治压力,迫使荷方违背自身利益作出决定。这必将导致对各方都不利的后果,也必将对国际贸易秩序带来负面影响。



中国驻荷兰大使馆网站截图


        尽管光刻机是半导体设备中的一个难点,但中国大陆一直没有放弃自主研发


        2020年6月,方正证券在一份研报中提到:“在国家02专项光刻机项目二期中,设定的时间为2020年12月验收193nmARF浸没式DUV光刻机,其制程工艺为28纳米,对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机:TWINSCANNXT:2000i。以NXT:2000i为例,各子系统拆分如下:上海微电子负责光刻机设计和总体集成,北京科益虹源提供光源系统,北京国望光学提供物镜系统,国科精密提供曝光光学系统,华卓精科提供双工作台,浙江启尔机电提供浸没系统。”


        今年6月8日,英国科技媒体“VERDICT”在一篇报道中称,上海微电子计划在今年底推出一台国产28nm DUV光刻机,并在上海的一条专有生产线上为物联网设备制造48nm和28nm芯片。该报道还提到,上海微电子管理层近期表示,提高48nm和28nm的良率仍然是一个挑战,但该公司现在拥有基本的自主光刻技术能力,无需美国IP来制造芯片。


        VERDICT评论称,现在评估中国企业在光刻机领域改变市场规则还为时过早,但是上海微电子已经在一个极其困难的技术领域取得突破。


不过,VERDICT并未透露具体信息来源。


        市场调研机构CINNO Research分析师向观察者网表示,目前了解到的信息是,光刻机研发难点中对进度影响最大的部分是光源和物镜,分别来自北京的科益虹源和国望光学。其中又以物镜为最难,与德、日还有多年技术经验积累差距,短时间内赶上相当不易。此外,为提高子系统和零部件自主化程度,反制美方“卡脖子”,整个系统还需要更多时间来完善。



VERDICT报道截图


        7月14日,上海市政府发布《上海市先进制造业发展“十四五”规划》。其中提到,“十四五”时期将加强装备材料创新发展,突破光刻设备、刻蚀设备、薄膜设备、离子注入设备、湿法设备、检测设备等集成电路前道核心工艺设备。


        也许是看到中国在突破半导体设备方面的决心,阿斯麦CEO温彼得今年4月曾向美国喊话,“如果你采取出口管制措施将中国市场拒之门外,这将迫使他们争取技术主权(tech sovereignty),就其真正的技术主权而言……在15年的时间里,他们自己将能够做出所有的这些东西,而且他们的市场(针对欧洲供应商的市场)将彻底消失。”


        而《华尔街日报》认为,中国追上阿斯麦的光刻机技术至少需要10年。




『本文转载自网络,版权归原作者所有,如有侵权请联系删除』
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引用 chen1001 2021-7-23 10:22
DICT评论称,现在评估中国企业在光刻机领域改变市场规则还为时过早,但是上海微电子已经在一个极其困难的技术领域取得突破

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