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请教高手,PCB设计时的正片负片分别是什么意思?起初还以为是PCB制造时的菲林呢,汗! ...

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1#
发表于 2008-1-6 22:00 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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如题,多谢指点!
changxk0375 该用户已被删除
2#
发表于 2008-1-7 09:01 | 只看该作者
提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽

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3#
 楼主| 发表于 2008-1-7 22:57 | 只看该作者
多谢!, b) `: }6 J% B& v4 w
原帖由 changxk0375 于 2008-1-7 09:01 发表
$ M. U8 V( ^' E$ B5 @0 a) X5 A+ q是设置层叠的两种形式。一般信号层为正片平面层设置为负片以减小计算机处理数据。

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4#
发表于 2008-1-26 00:33 | 只看该作者
理解正片与负片,就要去看看以前照片和底片的关系一样,可以类比的。
& r, {" p/ Z9 H% ?$ ?* a$ E这样做是为了让计算机处理图片的时候尽可能的减少运算,图形运算很费时间的。
* ~/ h! S9 F5 w$ [, p正片负片的运用,原则就是让处理的图形尽可能的少,没有规定那个layer一定要用正片或者负片

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5#
发表于 2008-1-26 09:40 | 只看该作者
学习学习

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6#
发表于 2008-1-29 08:47 | 只看该作者
领教了

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7#
发表于 2008-1-30 10:43 | 只看该作者
清楚了

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8#
发表于 2008-2-1 21:16 | 只看该作者
學習

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9#
发表于 2008-2-3 19:59 | 只看该作者
學習一下吧 不过现在计算机这么快。。
$ p; ^7 X$ F( L我觉得还是都做正片的好~~

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10#
发表于 2008-2-15 08:58 | 只看该作者
学习了!!!!!

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11#
发表于 2008-2-20 12:28 | 只看该作者
3Q~8 C0 d$ I/ E9 i( z
* ]" O  V% u6 J+ n5 X' q
飘过~~

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12#
发表于 2008-3-16 00:02 | 只看该作者
计算现在这么快正片比较好,不容易出错了啊

该用户从未签到

13#
发表于 2008-3-17 18:47 | 只看该作者
正片就是所见既所得,负片就刚好相反的,
! _4 p# N+ L; b3 u' n7 xPLANE层多用负片,正片可以用做PLANE层% H8 p9 P8 l3 @4 T' {% T- V# X: `

( @6 P" t  M/ O* x" \- r高手们我说的对不对啊?

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14#
发表于 2008-3-18 08:30 | 只看该作者
原帖由 may 于 2008-3-17 18:47 发表 ' C: H5 F& Q* ]" ]  ], g/ z: H
正片就是所见既所得,负片就刚好相反的,3 j% R  _$ ?, w4 [, w
PLANE层多用负片,正片可以用做PLANE层  C: e  z8 B) y" V
, R+ Q/ [5 C: x% \3 [6 t7 i
高手们我说的对不对啊?

1 S! N* `5 L7 E/ t, Y: N" c8 E, {不算完全正确吧

该用户从未签到

15#
发表于 2008-4-10 17:37 | 只看该作者
正片:一般是我们讲的pattern制程,其使用的药液为碱性蚀刻3 y# {1 s8 _$ s
正片若以底片来看,要的线路或铜面是黑色的,而不要部份则为透明的,同样地经过线路制程曝光后,透明部份因干膜阻剂受光照而起化学作用硬化,接下来的显影制程会把没有硬化的干膜冲掉,*****接着是镀锡铅的制程,把锡铅镀在前一制程(显影)干膜冲掉的铜面上,然后作去膜的动作(去除因光照而硬化的干膜)*****,而在下一制程蚀刻中,用碱性药水咬掉没有锡铅保护的铜箔(底片透明的部份),剩下的就是我们要的线路(底片黑色的部份)…-->下制程
8 q4 R$ n1 x; @& @1 c
, i5 x8 a; A/ e* n负片:一般是我们讲的tenting制程,其使用的药液为酸性蚀刻
1 X& u  j6 m8 O" e7 m4 c6 a* B负片是因为底片制作出来后,要的线路或铜面是透明的,而不要的部份则为黑色的,经过线路制程曝光后,透明部份因干膜阻剂受光照而起化学作用硬化,接下来的显影制程会把没有硬化的干膜冲掉,于是在蚀刻制程中仅咬蚀干膜冲掉部份的铜箔(底片黑色的部份),而保留干膜未被冲掉属于我们要的线路(底片透明的部份)…-->下制程
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