关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness

JOBS · 发表于 2015-4-1 14:48

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关于siwave里仿真那个表面粗糙度suface roughness，设置值多少才正确，仿真了2个比较，差别不大。

红孩儿 · 发表于 2015-4-1 15:00

那玩意只是个摆设吧。

菩提老树 · 发表于 2015-4-1 15:34

这个要看你使用的是什么样的铜箔，有的是1um多，有的是2um多，也有的4um多。。。。。。

cousins · 发表于 2015-4-1 15:39

Hammerstad model
则设置为1 microns rms top and bottom，大部分PCB厂商目前的约为4microns peak to peak surface roughness
Huray model
半径建议设置成0.5 microns 6~8 ratio ，原因同上。你也可以把半径设小，ratio设大来满足精度，但是相应的复杂设计仿真时间会大大增加。

cousins · 发表于 2015-4-1 15:40

差别主要在损耗上

红孩儿 · 发表于 2015-4-2 09:22

学习下，留个爪

Xuxingfu · 发表于 2015-4-2 09:30

SIwave仿真粗糙度有点扯，虚假的功能，别那么认真

JOBS · 发表于 2015-4-3 13:32

Xuxingfu 发表于 2015-4-2 09:30
- \$ G2 U: l$ o' d: @- C$ @2 d$ `9 ?SIwave仿真粗糙度有点扯，虚假的功能，别那么认真

多谢版主。

mosman · 发表于 2016-2-18 10:14

Xuxingfu 发表于 2015-4-2 09:30
' {* e2 S: E% Q+ ?/ R; Y; [0 ISIwave仿真粗糙度有点扯，虚假的功能，别那么认真

你好，请问有什么工具仿真粗糙度比较靠谱呢？

l888888h · 发表于 2016-2-18 17:50

考虑粗糙度的影响和不考虑粗糙度的影响相差还是比较大的
但是考虑了粗糙度之后，是将粗糙度设置为1um或是设置为1.5um，这个差距就不那么大了

所以，需要考虑粗糙度，然后将粗糙度设置为一个一般的值就可以

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