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黑镍现象 * f6 ]+ S# c* n
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' J/ r8 v, q' Q9 r1 w/ T前言
& _* b# I; P! L+ d; U$ o黑镍的生成主要是因为在浸金过程中,镍层表面遭受过度氧化反应。大体积的金原子不规则沉积,及其粗糙晶粒之稀松多孔,造成底下镍层持续发生『化学电池效应』(Galvanic effect),进而使得镍层不断发生氧化,导致在金面下生成未能溶解的镍锈持续累积而成。1 {4 d |/ C( F2 W' O1 c
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1 d8 T8 X1 U7 p) U) K* K8 Y1 c" b3 a黑镍对焊接的影响
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1.案例背景
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8 M- V# j4 F' S* R4 k _, p2 X▷ 客户产品过SMT后发现某电容焊点强度过低(推力<0.3kgf), 焊点断裂,不良率约为30%, 客户要求分析失效原因。7 u8 p6 Q2 a! L) s. X1 t
▷ PCB为化镍浸金板,电容表面处理为镀镍镀锡。7 Y3 o- ?7 V2 q8 P. `# O
▷ 断裂通常发生在右端焊点。" {5 n& N8 ?' n, k. s
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2.分析方法简述# P- @" \% L8 i' ?
?& R4 ~& _' r. ^2.1 原因分析-断口分析(推力:0.25kgf)
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& _0 ?4 N4 |" d- t9 I& F! M▷ 对脱落样品的断口进行分析,发现断裂主要发生在焊点PCB侧富P层附近。* @8 `& T0 t, F) U- r2 L
▷ PCB端左右两侧断口形貌存在明显差异,右侧断口发现有明显的“泥状”腐蚀裂纹。. S! W/ D5 G: R) J0 t8 C D/ y
2.2 原因分析—电容原物料分析# O# `2 G7 k+ \+ M
2.2.1 表面成分分析3 j9 q+ K O7 S1 e* F7 J, g
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2 }( @7 a7 u6 D, V% i' P- B2.2.2 沾锡能力测试: T! `$ M4 ^! \2 V8 p' {
) J, t* _7 c5 H# r" Y( }2.2.3 切片+EDS分析
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小结:1.对电容左右两端进行表面成分分析,未发现异常元素;, p: c9 k0 e# Y$ }1 [( ^
; }/ A) }) [1 t+ A% Q" E2.电容左右两端的沾锡能力正常。$ E$ A( f/ D0 |/ x0 E
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3 }" M# V. J$ H# k2.3 原因分析—PCB原物料分析, y2 R; a8 `* S/ b V5 k
切片分析+膜厚量测7 F: ^) _. x. @- K4 a
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# ^3 |- T$ L1 |2 ?2 K$ h) z3 E5 J
: e$ H4 @# u# Z) l2 ]3 Q! X+ G● PCB原物料发现有较严重的“黑镍”现象,其中右侧Pad明显比左侧严重
% @: W2 S0 g8 r7 I8 S4 `8 Z k● 镍层厚度在正常范围之内) X" p) E2 S6 r! \+ j3 j/ k+ M0 G
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3 d& E0 p; e8 v小结:PCB镍层P含量约为9wt%,在正常范围之内(6-10wt%)
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3 R8 l* R$ a3 q! f \3 C8 J: |2.4 原因分析—未脱落样品焊点分析
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▷ NG样品焊点内生成的IMC普遍较厚,部分区域達4.2μm 。同时生成了厚度近0.4μm的富P层,以及连续的Ni-Sn-P层。过厚的IMC及连续的Ni-Sn-P对焊点强度不利。
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▷ 右侧Pad焊点内有严重的黑镍,导致局部区域焊接润湿不良。在黑镍上方同时发现有大量的Au富集(AuSn4),AuSn4易产生“金脆”,对焊点强度不利。7 x5 K P* C% N, [ g
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▷ 在部分区域黑镍造成了较严重的腐蚀裂纹,部分腐蚀裂纹达到了Ni层的一半。在NG样品的断口上,可以轻易发现这些腐蚀裂纹。
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3.结论
8 Z3 c$ b, H* M/ y% U9 h7 O1.焊点断裂主要发生在PCB侧的富P层附近。不良批次的PCB有严重的“黑镍”现象,其中失效位置的右侧Pad明显严重于左侧,导致右侧焊点更容易失效。: Q. O' L# t0 @
2.黑镍导致焊点部分区域出现不润湿,并在部分区域产生了较严重的腐蚀裂纹,影响焊点强度。
. }; W/ m7 f$ s4 z3.两侧Pad焊点均生成了较厚的IMC,厚度近0.4μm的富P层以及连续的Ni-Sn-P层。Ni-Sn-P相与IMC结合力差,可能对焊接强度有影响。% b2 E) ^9 F( O. \4 C$ i& {* z
. A- F% Z5 W3 w/ e1 d7 d7 k4.改善建议2 K( J, |7 B, R/ Q/ N3 U6 n7 U
1.严格控制原物料PCB质量,减轻黑镍现象; ^# i1 W& M% }/ z! y; w+ F0 T
2.适当降低焊接热量。
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