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[毕业设计] 具有埋层结构电介质样品扫描电镜二次电子特性

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    发表于 2021-2-5 13:39 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    摘 要: 采用较为全面的考虑电子散射、俘获、输运和自洽场等过程的数值模型,阐明了具有埋层结构电介质样 品的扫描电镜检测机理及二次电子电流的动态特性.模拟结果表明,被沟槽界面俘获的电荷会影响空间电场分布,从 而影响二次电子特性.随着电子束照射,样品表面沿着深度方向的电场强度增强,更多的二次电子返回表面,从而产生 图像衬度.图像衬度随电子束能量的变化呈现极大值,而随电子束电流的增大而增大,模拟结果与实验结果基本一致.
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    ' Y/ U# {) S5 ?% L' J3 N关键词: 电介质;埋层结构;扫描电镜;二次电子电流
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          具有埋层结构电介质样品扫描电镜二次电子特性 是目前电子显微领域的重要研究课题.在现代微电子器 件的生产过程中,为了对器件进行生产中的筛选,需要 对这些覆盖了绝缘层的半成品和成品进行检测,特别需 要检测样品埋层结构信息,特别是不能损伤样品.扫描 电子显微镜是目前进行样品分析的常用仪器.扫描电镜 通过接收电子束与样品相互作用产生的背散射电子、二 次电子等信号,可以对样品进行形貌观测和成分分 析[1].然而,低压扫描电镜常用的衬度模式无法观测内 部埋层结构[2].% C4 ~: @* C  D8 ^" I! H6 m8 O: n

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    附件下载: 具有埋层结构电介质样品扫描电镜二次电子特性.pdf (2.54 MB, 下载次数: 0)
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    [LV.1]初来乍到

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