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Altium Designer 10 使用技巧

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    [LV.1]初来乍到

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    x

    ( d6 @9 ?8 A7 `5 U. Z$ v: [一、封装文件、PCB文件编辑时的吸附(Snap)的灵敏度。8 B' y: G9 Z% N$ u4 M5 C( \# U
    * s8 C4 c; g  t4 e
      像焊盘中心、过孔中心、线段的端点、走线的端点、铺铜的顶点,这样的点有吸附光标的特性,鼠标移动到这些点的附近会被吸附到上面。Snap的灵敏度可以调整。8 n9 X0 ^$ D. o7 ?. T6 P3 S
    7 M/ y  y4 M* \3 @$ i
      在封装编辑的时候,快捷键O B(或者T O)弹出板子选项,里面可以更改吸附到网格、吸附到关键点(Hotspot)的设定,如下图。4 L( v+ m2 E9 p7 S, y

    6 ?) L$ a' n8 f  在PCB编辑的时候,快捷键是D O。
    $ v6 F: v7 K0 `' R1 @
    3 G5 w1 p/ j4 N. i' s                 " ]# h9 r8 g! C
    ) J9 ^5 G) a! T! Z
    4 z$ Y) u8 [0 P! J# b6 [7 a; ^
    ! }0 V( F) C$ l- h: Q) F) }
    二、Ctrl+鼠标左键高亮显示网络的对比度。  X9 X2 l) V) b4 M' L
    ( a9 i. x% i- \" V. n+ g
      灰暗度在编辑区域右下角的Mask Level更改,如下图,有三个不同选项。
    & Y7 l( y+ w& |; [- o0 k( B
    5 z9 w( L3 ~5 w% [5 b) a                 
    1 t6 M1 e9 X5 F( z$ T4 \# h, p$ N' }. w- l! i( r
       其中,Masked Objects Factor控制非高亮部分的亮度,Highlight Objects Factor和Background Objects Factor还没有弄明白。8 C- \; s( }: E9 d

      {: q# h/ S/ I' s 3 V, G0 }3 @' n- Y: C

    ( y# J' M6 ~. V  e! @: f% w三、规则的设定。
    5 _- {. ?  @2 [% E0 ^. f  w8 ^4 l$ `2 p, H4 X
      1、大面积铺铜的间距和不同网络元件的间距。
    5 D1 r  Y, G' [7 \9 x/ s; h
      m9 i. |) _; K0 c% h, _+ ?   元件、走线、过孔之间的间距常用Clearance--All约束,
    + d1 n* C' t# b
    * G  n- j  m2 X  大面积铺铜(Polygon)中,不同网络的物体,间距用类似InPolygon的约束条件来规定。当然还可以对不同层的Polygon进行最小间距的设定。% c4 b( R- ^& o9 y4 D: Q/ |
    7 i. p  k) h; ~9 n
    # h7 s1 ?7 D8 W2 L/ @! Q) A

    # F( p7 {0 G  L. d( F" G, W: \& Y( v% M7 T2 ]* z
    4 y8 v& r; w; ^8 y  x; G8 H) {
    四、灵活的布线。
    ' X2 R5 s' S) f  M8 f
    9 A9 i) Z- ]* x4 B/ z  1、布线的过程中,默认是45度转角。在布线的过程中,按下Shift + Space可以实现角度的变换,分别是45度,圆弧(任意圆心角),90度直角,90度圆弧,和直连。五种效果如图:8 C  ~* U# D* W8 T" a% O
    1 k& s# B. k- t

    8 ~' s" U, t# j  _& ~" T: y( X" N& A: _/ u
    ; n5 t5 K( X! |! p$ c5 r5 B
      S& N$ h% u& c

    # j; H$ C8 h/ y' B! A6 W6 A6 C8 a
    5 h; ?; j% m$ l4 K" s7 X# P  |

    2 h! ]+ R: O) R, R- g% C
    $ I3 \  B. v9 M+ c( t' u; U% A7 `
    2 d! P7 s; D! F$ E5 _  Q& z8 w6 H: C7 [) s' O
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