怎样进行电磁场的屏蔽?
" n% L; |9 Y; v5 r) I2 |2 R) }
0 Y, ^3 u0 K+ ^& Z8 H4 |0 G通常所说的
EMC 屏蔽,一般指的就是电磁屏蔽,即对电场和磁场
K# I; v$ ?1 Z" U' e+ }2 {; d同时进行屏蔽。
+ x& L6 V9 p. V2 l8 ^
电磁屏蔽也用来防止高频电磁场的影响。
6 x# N- Z! g) S1 q
交变场中,电场分量和磁场分量总是同时存在。
4 R4 C8 ^, k7 H0 K( v; {4 e知识在频率极低的范围内,干扰一般发生在近场,而近场中随着骚
2 x" b& W+ [2 }$ x
扰源的特性不同,电场分量和磁场分量会有很大区别。
$ x4 d. E3 u1 ]" O) t. D6 \& c
高压低电流骚扰源以电场为主,磁场分量可以忽略,只考虑电场的
% T" c9 R6 c/ M6 M# `. [7 ^7 P屏蔽。
9 @4 g9 @ D8 q
低压大电流骚扰源以磁场为主,电场分量可以忽略,只考虑磁场的
- @1 w0 Y8 `3 H [+ I7 ~
屏蔽。
( b' p% j w8 u9 i- X随着频率升高,电磁辐射能力增强,产生辐射电磁场,并趋向于远
7 S e( O' W* |5 r! g+ F场干扰。
5 B6 ]& l4 y# D/ a' {
远场中,电场、磁场均不能忽略,要对电场和磁场同时屏蔽,即进
/ i/ \. [. P4 R9 j* d9 E行电磁屏蔽。
# R: Y7 J' H* {0 p( Q& _8 S7 j
高频时,即使在设备内部也可能出现远场干扰,也需要进行电磁屏
2 S2 ]/ d% O8 i, G/ i2 t
蔽。
2 T/ I3 _- C8 Z采用良导体材料,能同时具备对电场和磁场(高频)屏蔽的作用。
' M2 b3 t/ P# J
由于高频集肤效应,对于良导体而言,集肤深度很小,电磁屏蔽体无需做得很厚。
4 M, ~3 D2 S5 R- I! H
其厚度仅取决于产品的工艺结构及机械性能。
: Y1 x4 P% G' y9 s! J9 r$ s" d
进行电磁屏蔽时:
; Q$ u6 E* {# } L频率在 500kHz~30MHz 范围内,屏蔽材料可选用铝材。
: _% v3 ^- D5 w- ~+ n, N5 u频率大于 30MHz 时,可选用铝、铜、铜镀银等材料。
+ C5 p6 V" N0 q5 {" n3 }" z
电磁屏蔽是利用屏蔽体对干扰电磁波的吸收、反射来达到减弱干扰
6 N& ^+ H9 k2 }& O
能量作用的,可采用板状、盒状、筒状、柱状的屏蔽体。
# O9 x' P1 |$ p" C H
电磁屏蔽体形状的选择应以减小接缝和避免腔体谐振为标准。
8 F8 k4 g" ?4 a5 P& q0 p6 Y* T
圆柱形机箱的屏效高于长方形机箱的屏效,电磁屏蔽设计时,优先
( N2 N9 J p% H选用圆柱形的机箱。
5 q0 p' u5 s0 x9 E当需要屏蔽的电磁场频率接近或等于屏蔽体的某一固定频率时,应
* ^8 r0 i- j3 V1 q _
改变屏蔽体的形状或尺寸来避开这一固定频率。
4 Z% p- O9 p7 y" [: {6 n进行电磁屏蔽设计时,屏蔽体上的孔缝泄露是电磁屏蔽最关键的控
- m" [ X2 H- }9 w/ [1 ?% F0 o
制因素。要着重考虑三大关键因素:
3 e, L1 ?& Q+ p" b" j" P① 屏蔽材料的选择;
9 \! K7 d. ], ]* T% [/ m m _② 屏蔽结构完整性设计;
: V; _. l* B7 {- J8 p$ e③ 电缆进出结构体的设计。
1 |2 u7 L6 D' A( i+ w" H