影响WiFi RF EVM的因素分析

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概述
●802.11/a/b/g /n WLAN Transmitter的性能会直接影响产品质量。但是，Transmitter的性能很容易受到RF部分的设计选择、电路板布局及其实现方式、元件的变化及更替等因素的影响，并且会由于802.1la/b/g/n标准所要求的调制类型和频带的不同而变得更加复杂。
" ?, I4 k  s% q' A2 _4 D( P●具有频谱分析仪、向量信号分析仪（VSA）及功率表（带信号分析软件，如LitePoint的IQview 802.1la/b/g WLAN 测量方法及其相关的IQsignal软件包）能力的测试仪是分析大多数WLAN 发射机问题的必备工具。利用频谱分析仪与功率表能力可以测量频率偏差、瞬态信号、相位噪声、同带信号传输功率、相邻信道功率及其它参数，而VSA能力则可以将特定的信号解调成正交分量，因此可将复杂的信号显示为具有幅度和相位特性的向量或者显示其完整的信号星座图。信号分析软件可随之简化测量过程并同时提供性能测试的统计评估结果。
2 c2 f" q/ A% d●利用这些工具，可以在调制域、时域及频域进行测量，在设计过程与生产期间评估发射机性能并查找其故障。此外，由于允许测量一个简单方便的品质因数——误差向量幅度（EVM），将表征发射RF信号的许多参数简化为单一参数，因此这些工具简化了802.11a/b/g所需的复杂波形分析。在生产线测试中，EVM可作为合格与否的标尺以简化发射机的质量保证并提高测试吞吐量，而在设计过程中，EVM则是一个很有价值的总体信号质量指标。


2 r/ A/ h1 }7 z9 Z5 M相位噪声
■当信号与本振（LO）信号混合并从基带频率转换为RF频率时，相位噪声会进入到信号中。LO相位噪声分配反映了频率合成器使用的参考晶体振荡器的频率稳定性、合成器锁相环（PLL）使用的压控振荡器（VCO）的频率稳定性以及频率合成器使用的PLL 的环路带宽。PLL对于晶体振荡器来说是低通滤波器，对于自激VCO来说是高通滤波器。根据PLL的环路带宽，理想的合成器输出相位噪声频谱密度由以下因素决定;低频偏移下较好的晶体振荡器长期稳定性;高频偏移下较好的VCO短期稳定性;带内PLL自身鉴相器与分频器所产生的带内噪声为基底。
' z, k) N6 U5 ^4 @+ n" {7 ?, e■相位噪声影响调制精度，与其它减损一样，也会影响到EVM。
■应该去除过多的相位噪声，因为过多的相位噪声可能是出现各种问题的征兆，比如晶体振荡器的噪声、电源噪声产生的寄生信号或者电路板屏蔽不充分、送入频率合成器或混频器中的参考晶体振荡器信号电平不正确或者其它设计或生产问题。将过多的相位噪声确定为不良EVM成因的最佳途径就是检查相位噪声的能谱密度（PSD）。某些具有VSA能力的单机测试器，如LitePoint的IQview 可以对WLAN调制信号进行相位噪声分析。
■MT5921的RF部分供电1.8V，如果受到其它高速信号线的干扰、或者本身纹波太大都可能导致EVM Fail。
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8 C+ g- _% p- ^  lPSD与EVM



IQ-View量测的参数解读
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