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EDA365电子论坛网»电子社区 › 研发技术版块 › 芯片SIP|封装设计 › 光刻与刻蚀工艺解析
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光刻与刻蚀工艺解析

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showmaker

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1#
发表于 2022-9-29 13:44 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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x
9 r8 i5 t) S* M; r0 N% E1 s( b+ r6 _

4 l, K; e  |* L; x) k' K# E5 j光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。
6 |& F! ~: A# V! i$ N# }
" E' U. A$ J3 a; J
% ]8 o' c1 [) j+ @  G" N) m在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成器件和电路结构。) x( ^, P' L* R- Y

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Vincent_MH

该用户从未签到
2#
发表于 2022-9-29 14:06 | 只看该作者
非常感谢分享* Z8 |$ P# z( t4 x9 v9 i

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tutututut
  • TA的每日心情
    开心
    2022-12-26 15:46

    • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到
    3#
    发表于 2022-9-29 17:39 | 只看该作者
    光刻机，刻蚀机

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    瞪郜望源_21
  • TA的每日心情
    开心
    2025-6-22 15:46

    • 签到天数: 1113 天

    [LV.10]以坛为家III
    4#
    发表于 2022-9-30 12:35 | 只看该作者
    不错不错，很是深度和专业，学习下

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    awei1981
  • TA的每日心情
    慵懒
    2021-7-31 15:23

    • 签到天数: 8 天

    [LV.3]偶尔看看II
    5#
    发表于 2022-10-26 22:50 | 只看该作者
    学习一下，谢谢分享' v# f* t3 h4 O

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    Renlz

    该用户从未签到
    6#
    发表于 2023-7-27 00:24 | 只看该作者
    非常感谢分享

    “来自电巢APP”

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