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[Ansys仿真] 电路层 (铜+镍) 怎么设置?

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 楼主| 发表于 2023-11-27 15:29 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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请教大神, 如果用siwave 仿真一个电路板, 电路用的不是常规单纯电镀铜 (例如10um厚度),  而是用双层电镀  铜 + 镍   (例如铜10um+ 镍5um),6 b3 `1 v6 B4 P/ b* ^
这种情况Siwave如何设置电路层的导体层厚度???  ( e* ~0 O/ {$ e( e2 g# ^# Z
" ^( s! @6 h; Z4 X

点评

重點在銅的阻抗, 用並聯看, 除非有比阻抗銅小的, 不然建議無視, (這也是我本來想回VIA填滿的問題, 而一般電鍍也是會先打镍底再镀金, 主要镍銲接性不好, 所以镍上面要再鍍金.)  发表于 2023-11-27 18:56

该用户从未签到

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发表于 2023-11-27 18:39 | 只看该作者
尽量用常规电镀,不然会了问题都没法找人解决
  • TA的每日心情
    开心
    2025-4-23 15:51
  • 签到天数: 41 天

    [LV.5]常住居民I

    3#
    发表于 2023-12-7 15:11 | 只看该作者
    考虑这么精确的话,会不会也超出软件的精度呢?
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