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碳化硅(SiC)MOSFET与绝缘栅双极晶体管(IGBT)在应用中的降额标准差异主要体现在温度敏感性、开关损耗特性及导通电阻变化等方面。以下从关键维度对比两者的降额策略差异:" @6 A8 O: x F& Y" h3 Q$ |+ Q) Q7 v
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倾佳电子杨茜致力于推动SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!% s* j$ U$ M) `
6 @/ G9 w- M& a/ M3 ~: a3 f2 }倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:7 E* {% P+ p' N) P3 i8 `1 K
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倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块的必然趋势!+ L; h4 n# i) a+ t3 f
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管的必然趋势!+ l( W+ s8 C0 w6 N+ L0 m
倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!( V5 H* K9 K: C5 W. N$ B
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### **1. 温度降额:高温稳定性差异** 0 N. w# j* [: ^% A
- **SiC-MOSFET**:
% P. O. V: a) Q( g; t: d2 R - 其导通电阻(\(R_{ds(on)}\))随温度升高的变化幅度较小。例如,在150℃时,SiC-MOSFET的导通电阻增幅比硅基MOSFET低约50%,因此高温下的功率降额需求更低。 6 d" A) ?9 v" E
- 无IGBT的“尾电流”问题,开关损耗在高温下几乎不增加,无需因温度升高额外限制开关频率或电流容量。 : X5 X3 ^/ V& B( R2 n
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- **IGBT**: ' [5 P3 O' S z) J) {* P
- 高温下导通压降(\(V_{ce}\))显著增大,且关断时的尾电流随温度升高而加剧,导致开关损耗增加。例如,IGBT在150℃时的关断损耗可能比室温时高20%-30%,需通过降额降低电流或电压以控制温升。 * e; B9 a& s1 M) s6 @
- 通常需设置更严格的温度降额曲线,例如额定结温(\(T_j\))的80%作为实际运行上限。) a5 G2 ~ M) ?
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) p T& j' [9 y# u### **2. 开关损耗与频率降额**
7 }1 F1 ]! Y1 Y- **SiC-MOSFET**: # o* ?, l8 d: F
- 开关损耗仅为IGBT的10%-20%(如与SBD配合时关断损耗降低88%),支持更高开关频率(MHz级)而无需大幅降额。
7 U5 v0 O( I) _/ x5 C) U - 高频应用中,可通过优化驱动电阻(\(R_g\))和封装设计进一步减少损耗,降额主要针对寄生参数(如电感)而非频率本身。 5 G8 e' A% [5 h) g. J7 F
' C, V; I1 T1 Z- **IGBT**: 5 u4 g9 l% e; E/ R1 `3 W$ V7 p# ]& g
- 开关损耗较高且随频率线性增长,尤其在关断时因尾电流导致损耗陡增。例如,在20kHz以上应用中,需将电流或电压降额30%-50%以控制温升和可靠性。
" u1 ]! f6 y/ h0 a+ A - 高频场景下通常需牺牲效率或功率密度以满足降额要求。
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Y" Z5 h/ F1 q0 L/ n* o9 f### **3. 导通特性与电流降额**
) g8 h. X) J* D) f- **SiC-MOSFET**:
/ O0 f8 I' I+ \; q4 N/ Q" p) h3 Q - 导通电阻(\(R_{ds(on)}\))在低电流区呈线性特性,低负载时效率优势显著。例如,在10%额定电流下,其导通损耗比IGBT低50%以上,因此低功率运行时无需额外降额。
3 r3 P% x, z- M4 I. { - 多芯片并联时需考虑参数分散性,但通过均流设计可减少降额需求。
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- **IGBT**:
: l) w3 A- }( @. M - 低电流区域导通压降(\(V_{ce}\))非线性显著,导致效率骤降。例如,在额定电流的20%以下时,IGBT效率可能下降5%-10%,需通过降额限制最小工作电流。
& ^2 D/ d& ^+ B# N( P - 大电流应用中,导通压降随电流增大而上升更快,需根据负载曲线动态调整电流限值。8 c" x y1 q2 H. e& Y
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### **4. 电压与可靠性降额**
% W, l9 t/ b* n9 j1 ~8 {/ l- **SiC-MOSFET**: 7 X$ G% E+ y' a/ _# _; I# S
- 耐压能力(如650V-1700V)与动态特性优异,雪崩能量耐受性高,通常仅需10%-15%的电压降额(如650V器件按600V设计)。
3 p) y# Y, d) B! @' o2 h2 Y; l - 栅氧可靠性通过工艺优化提升(如均匀性≤0.5%的栅氧化层),进一步降低电压降额需求。 . l6 @; V: M0 f6 w/ o7 E4 ?% [
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- **IGBT**:
Y* F/ R ^1 j% ^ - 高压应用(如1200V以上)需更保守的电压降额(20%-30%),以避免动态雪崩击穿风险。 ' R, d+ u4 @( t. F0 r( ^
- 反向恢复电荷(\(Q_{rr}\))较高,需结合FRD(快恢复二极管)降额使用,增加系统复杂度。
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### **总结** 1 t- [% m7 ~& P% b
SiC-MOSFET凭借高温稳定性、低开关损耗及线性导通特性,其降额标准较IGBT更为宽松,尤其在高频、高温及宽负载范围场景中优势显著。而IGBT因结构限制需在温度、频率及电流等多个维度实施更严格的降额策略。实际设计中需结合具体应用场景(如新能源汽车、光伏逆变器)和可靠性目标,制定差异化的降额方案。
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