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作为电子工程师必须了解的行业——PCB技术发展趋势

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发表于 2019-12-6 10:40 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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PCB产品中无论刚性、挠性、刚挠结合多层板,以及用于IC封装基板的模组基板,为高端电子设备做出巨大贡献。PCB行业在电子互连技术中占有重要地位。
9 F" M# e! f8 g( _" z& v5 j1 \7 {. Q& H2 A6 Z
回忆中国PCB走过五十年的艰难历程,今天它已在世界PCB发展史上写下光辉一页。2006年中国PCB产值近130亿美元,称为全球PCB第一生产大国。$ K, y9 A6 g/ ^" I$ b! e( p
. q" \6 G/ S3 |6 Q$ ~* Y* h

# H. r' T% a6 x& W1 s就当前PCB技术发展趋势:
3 @5 V* M  h& y7 n. i: E, [: }; G- D" L, F; ~
一、沿着高密度互连技术(HDI)道路发展下去
6 T" s9 b' k- Z4 r
2 |. B9 G7 \+ ?3 o& s4 }1 {. [由于HDI集中体现当代PCB最先进技术,它给PCB带来精细导线化、微小孔径化。HDI多层板应用终端电子产品中--移动电话(手机)是HDI前沿发展技术典范。在手机中PCB主板微细导线(50μm~75μm/50μm~75μm,导线宽度/间距)已成为主流,此外导电层、板厚薄型化;导电图形微细化,带来电子设备高密度化、高性能化。
+ f7 t% j. u4 K; J. l' F' R+ B& q3 X; f9 j3 M6 x' M1 L4 l: P+ {

% }( q5 D! m, I7 z3 {; F1 s6 `二、组件埋嵌技术具有强大的生命力. P% N0 p6 m* g6 z9 v

5 A! s- }! b$ M8 T4 Z在PCB的内层形成半导体器件(称有源组件)、电子组件(称无源组件)或无源组件功能"组件埋嵌PCB"已开始量产化,组件埋嵌技术是PCB功能集成电路的巨大变革,但要发展必须解决模拟设计方法,生产技术以及检查品质、可靠性保证乃是当务之急。. ]5 I9 [- s( x( S

  S- }& x' }- X我们要在包括设计、设备、检测、模拟在内的系统方面加大资源投入才能保持强大生命力。
' z) p6 ?7 x# [2 L6 n5 V" h' s; p: }  h, y4 N9 x& X( N$ y3 r. b

2 ^2 @6 j' y# o# N. L5 L4 Z# r7 Q* d
三、PCB中材料开发要更上一层楼
" Z  l# v: I2 |: X8 l: _! W) e$ V- ^9 {
无论是刚性PCB或是挠性PCB材料,随着全球电子产品无铅化,要求必须使这些材料耐热性更高,因此新型高Tg、热膨胀系数小、介质常数小,介质损耗角正切优良材料不断涌现。
' u6 @4 D' y5 p4 c* J9 y5 Q
" K5 p! _* c6 [5 I# Q: B
8 `4 r1 _0 X. \7 k# b* x2 [  _1 A8 l+ o2 C/ X+ h+ O: t  [' B0 b
四、光电PCB前景广阔  q4 l( d3 e* ]( {
* B( H. Q$ H" X$ D4 b$ ~' R
它利用光路层和电路层传输信号,这种新技术关键是制造光路层(光波导层)。它是一种有机聚合物,利用平版影印、激光烧蚀、反应离子蚀刻等方法来形成。目前该技术在日本、美国等已产业化。
( P1 u6 h" ?3 I: ~. D
% ^8 l. ^. j1 |6 m
4 R1 v6 ?8 L! E( \- z  x& |五、制造工艺要更新、先进设备要引入3 |. [# X# v6 ^, N/ t" Y1 z' q0 c

0 o' W9 T& s, z% G! s1.制造工艺) G' U9 Y5 i- v7 P5 P% E' e& g

  V0 ~" ~7 ^! h3 f/ j  r, eHDI制造已成熟并趋于完善,随着PCB技术发展,虽然过去常用的减成法制造方法仍占主导地位,但加成法和半加成法等低成本工艺开始兴起。
8 l3 m8 n' \3 a  P6 y- m2 k9 s2 S  l% @0 r. \& T+ _' @
利用纳米技术使孔金属化同时形成PCB导电图形新型制造挠性板工艺方法。
+ [& e' v% n" ^3 m4 A, y* [+ \7 ~7 d; D) j0 h% ]/ K0 F) _% V2 h
高可靠性、高品质的印刷方法、喷墨PCB工艺。) Y  b" b6 @! E# F' l% w) G
3 m- T- t- @! w3 I
2.先进设备" I* B+ P+ G) m! r. o) v
" w7 m1 `' I0 q7 ^, ^
生产精细导线、新高分辨率光致掩模和曝光装置以及激光直接曝光装置。
4 C/ i, J. B8 G  [! Z2 z; h
- X) k5 ?6 R  g5 Q% H4 C均匀一致镀覆设备。
- M& Z7 g" {) k. s% p' D5 W2 h/ J7 ^; x, A( _6 _& n
生产组件埋嵌(无源有源组件)制造和安装设备以及设施。
4 ]3 W8 U' v5 W; j# N2 B

! s: u' \2 A& o6 C' L& M
' K# w& k" a: `

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发表于 2019-12-9 19:32 | 只看该作者
谢谢楼主分享
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