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场效应管

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1#
发表于 2020-7-13 11:18 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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场效应管使用时有什么规则吗
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2#
发表于 2020-7-13 13:09 | 只看该作者
以N沟道为例,它是在P型硅衬底上制成两个高掺杂浓度的源扩散区N+和漏扩散区N+,再分别引出源极S和漏极D。源极与衬底在内部连通,二者总保持等电位。图1(a)符号中的前头方向是从外向电,表示从P型材料(衬底)指身N型沟道。当漏接电源正极,源极接电源负极并使VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS逐渐升高,受栅极正电压的吸引,在两个扩散区之间就感应出带负电的少数载流子,形成从漏极到源极的N型沟道,当VGS大于管子的开启电压VTN(一般约为+2V)时,N沟道管开始导通,形成漏极电流ID。 国产N沟道MOSFET的典型产品有3DO1、3DO2、3DO4(以上均为单栅管),4DO1(双栅管)。它们的管脚排列(底视图)见图2。 MOS场效应管比较“娇气”。这是由于它的输入电阻很高,而栅-源极间电容又非常小,极易受外界电磁场或静电的感应而带电,而少量电荷就可在极间电容上形成相当高的电压(U=Q/C),将管子损坏。因此了厂时各管脚都绞合在一起,或装在金属箔内,使G极与S极呈等电位,防止积累静电荷。管子不用时,全部引线也应短接。在测量时应格外小心,并采取相应的防静电感措施

点评

谢谢大神指教  详情 回复 发表于 2020-7-15 14:14

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3#
 楼主| 发表于 2020-7-15 14:14 | 只看该作者
llbnmo 发表于 2020-7-13 13:09% l9 M* a3 g" P/ c: {0 w! Z% i
以N沟道为例,它是在P型硅衬底上制成两个高掺杂浓度的源扩散区N+和漏扩散区N+,再分别引出源极S和漏极D。源 ...
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谢谢大神指教$ |' d/ m9 _1 a

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4#
发表于 2020-7-16 15:05 | 只看该作者
MOS场效应管 即金属-氧化物-半导体型场效应管,英文缩写为MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor),属于绝缘栅型。其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此具有很高的输入电阻(最高可达1015Ω)。它也分N沟道管和P沟道管,符号如图1所示。通常是将衬底(基板)与源极S接在一起。根据导电方式的不同,MOSFET又分增强型、耗尽型。所谓增强型是指:当VGS=0时管子是呈截止状态,加上正确的VGS后,多数载流子被吸引到栅极,从而“增强”了该区域的载流子,形成导电沟道。耗尽型则是指,当VGS=0时即形成沟道,加上正确的VGS时,能使多数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止。

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5#
发表于 2020-7-16 16:34 | 只看该作者
来学习一下
  • TA的每日心情
    开心
    2025-7-2 15:55
  • 签到天数: 252 天

    [LV.8]以坛为家I

    6#
    发表于 2020-7-20 14:36 | 只看该作者
    好好学习,太难太难
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