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器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。, `" Z+ U1 m6 l4 s7 N5 C
开车的人都知道,哪里能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。
- z7 E7 d1 p- v# o4 A& @6 ~( Z 失效分析基本概念1 ?% m2 p4 b) v/ N5 |
定义:对失效电子元器件进行诊断过程。* @* y# @, a1 z" F
1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。
$ \9 y( ]# K& G, y 2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。$ ?) C4 @, u0 J6 }& ]* ^- F
3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。
/ U. M4 |5 H m' X1 g 4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。
5 @: W! |# M% R 失效分析的一般程序0 }/ t/ f: Z3 X3 h
1、收集现场场数据
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2、电测并确定失效模式
( a5 j- F4 Q" t 3、非破坏检查 4、打开封装
+ v- B# n5 p" T# n 5、镜验
& _. `) c6 g& ~ 6、通电并进行失效定位
& Y3 i) E; e( r 7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。% N# v/ c5 h: Y
8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。$ G9 g$ O9 u2 A& h# P. x+ g
1、收集现场数据:
: s. ^' J, g, u! c. r2 Y2 W 2、电测并确定失效模式
Q( m/ x0 s/ L2 V, s! V$ F% F# |+ m 电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。
, \1 l' a( q, d8 y' u 连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。0 f3 B0 G# i4 I5 j* _+ D# A5 E$ L2 G
电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。2 y- ]9 `, q f# n& X: W
确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。# C: K1 w+ J- U! ]9 o C
三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。
! V& j* O8 q l* P8 a6 S 3、非破坏检查
2 S/ p& C* n1 q% k2 n. R- {8 i X-Ray检测,即为在不破坏芯片情况下,利用X射线透视元器件(多方向及角度可选),检测元器件的封装情况,如气泡、邦定线异常,晶粒尺寸,支架方向等。
: D* c0 z! `+ h2 }) [% F 适用情境:检查邦定有无异常、封装有无缺陷、确认晶粒尺寸及layout& m0 k0 i2 N( W0 {9 a" {
优势:工期短,直观易分析
$ o9 f. e' n N: V6 s: |- I/ S 劣势:获得信息有限2 Q6 ?+ W4 l7 ?6 i4 ]
局限性: O, W2 V' G# \0 U/ T/ I; t8 |" H* G* s1 y
1、相同批次的器件,不同封装生产线的器件内部形状略微不同;
0 a4 } v2 P* t& F2 Q" J 2、内部线路损伤或缺陷很难检查出来,必须通过功能测试及其他试验获得。
+ Z4 t0 [! L) h5 w0 g 分析:, C3 G3 J" k7 {+ [/ E7 q
X-Ray 探伤----气泡、邦定线
X-Ray 用于失效分析(PCB探伤、分析)
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(下面这个密密麻麻的圆点就是BGA的锡珠。下图我们可以看出,这个芯片实际上是BGA二次封装的)
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4、打开封装
; K& s3 G1 c& d 开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。
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机械开封7 a4 P% S1 t) J
化学开封5 ^; i# U( u0 g% L! t2 A( g
5、显微形貌像技术7 \7 _& e) F3 }8 j# i: T
光学显微镜分析技术- _& F; n" V; c$ ~% e1 Z1 o# W
扫描电子显微镜的二次电子像技术 |, [9 \) o/ t, M" m r+ L
电压效应的失效定位技术# B$ g8 I) h/ N) Q
6、半导体主要失效机理分析
. Q: N7 q6 N2 b: ^! A4 P& u: u$ P 电应力(EOD)损伤) u7 E4 A# n" ]5 N. K
静电放电(ESD)损伤3 r* Z2 X* K/ X8 O& {7 U
封装失效
$ [: R+ ]8 T! e& _ 引线键合失效
: j' Q8 @2 h1 n) d F/ v 芯片粘接不良
% N8 f. {$ j+ g: B, p 金属半导体接触退化, i8 o* D3 c# K
钠离子沾污失效) C: L% d: n* T
氧化层针孔失效 # d* T9 N c4 o5 t# M( k+ f) v
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