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本帖最后由 中信华 于 2020-11-10 14:29 编辑 $ s# |$ e' k" v6 Q$ ]
9 \2 G" k$ r H* j2 Z9 G t8 s! O 多层PCB板的制作流程及打样难点
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PCB的制作目前大部分是减成法,即将原材料覆铜板上的多余铜箔减去形成导电图形。
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5 J! b' ?' J8 i3 W 多层PCB板的制作流程
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+ |9 h! \/ n3 z' r( g1 h! i/ e8 { 减成法大多是用化学腐蚀,经济又效率。只是化学腐蚀无差别攻击,故需对所需之导电图形进行保护,要在导电图形上涂覆一层抗蚀剂,再将未保护之铜箔腐蚀减去。早期之抗蚀剂是以丝网印刷方式将抗蚀油墨以线路形式印刷完成,故称“印制电路板(printed circuit)”。只是随着电子产品越来越精密化,印制线路的图像解析度无法满足产品需求,继而引用光致抗蚀剂作为图像解析材料。光致抗蚀剂是一种感光材料,对一定波长的光源敏感,与之形成光化学反应,形成聚合体,只需使用图形底片对图形进行选择性曝光后,再通过显影液(例1%碳酸钠溶液)将未聚合之光致抗蚀剂剥除,即形成图形保护层。- Q; A" T' s' H# Q+ h9 g5 R. M/ J
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还有层间导通功能是通过金属化孔来实现的,故PCB制作过程中还需进行钻孔作业,并对孔实现金属化电镀作业,最终实现层间导通。
' k# L! g9 c3 a& g- p* S3 n6 H 以常规六层PCB为例,制作流程如下:/ k2 }3 c& W9 f. i' U3 `1 @
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一、先做两块无孔双面板" c. a* j6 f9 g& z1 ~0 N$ r
开料(原材双面覆铜板)-内层图形制作(形成图形抗蚀层)-内层蚀刻(减去多余铜箔)
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二、将两张制作好的内层芯板用环氧树脂玻纤半固化片粘连压合 将两张内层芯板与半固化片铆合,再在外层两面各铺上一张铜箔用压机在高温高压下完成压制,使之粘连结合。关键材料为半固化片,成分与原材相同,也是环氧树脂玻纤,只是其为未完全固化态,在7-80度温度下会液化,其中添加有固化剂,在150度时会与树脂交联反应固化,之后不再可逆。通过这样一个半固态-液态-固态的转化,在高压力下完成粘连结合。& s* X6 n; X) v ~' t( a4 i
9 A2 m' ]5 \8 K# B$ _' z. i& _ PCB多层板无论从设计上还是制造上来说,都比单双层板要复杂,一不小心就会遇到一些问题,那在PCB多层线路板打样中我们要规避哪些难点呢?
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5 T8 r9 q k6 N PCB多层线路板打样难点
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1、层间对准的难点
9 [9 Z6 t4 T$ |2 L. a9 Q 由于多层电路板中层数众多,用户对PCB层的校准要求越来越高。通常,层之间的对准公差控制在75微米。考虑到多层电路板单元尺寸大、图形转换车间环境温湿度大、不同芯板不一致性造成的位错重叠、层间定位方式等,使得多层电路板的对中控制更加困难。
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2、内部电路制作的难点
- ?, @ Y+ x6 x3 H/ | 多层电路板采用高TG、高速、高频、厚铜、薄介质层等特殊材料,对内部电路制作和图形尺寸控制提出了很高的要求。例如,阻抗信号传输的完整性增加了内部电路制造的难度。宽度和线间距小,开路和短路增加,短路增加,合格率低;细线信号层多,内层AOI泄漏检测概率增加;内芯板薄,易起皱,曝光不良,蚀刻机时易卷曲;高层plate多为系统板,单位尺寸较大,且产品报废成本较高。5 M8 f* f: N2 E( C
* H A8 J# s* a. q9 o9 r 3、压缩制造中的难点
. L# p% j# f8 y% O6 { 许多内芯板和半固化板是叠加的,在冲压生产中容易出现滑板、分层、树脂空隙和气泡残留等缺陷。在层合结构的设计中,应充分考虑材料的耐热性、耐压性、含胶量和介电厚度,制定合理的多层电路板的材料压制方案。由于层数多,膨胀收缩控制和尺寸系数补偿不能保持一致性,薄层间绝缘层容易导致层间可靠性试验失败。& c; [7 ~. @% n' ]! c8 R8 ^
2 G. i, g: R, e! U" _ 4、钻孔制作难点3 S( l' u9 G8 T" }# r% }! h
采用高TG、高速、高频、厚铜类特殊板材,增加了钻孔粗糙度、钻孔毛刺和去钻污的难度。层数多,累计总铜厚和板厚,钻孔易断刀;密集BGA多,窄孔壁间距导致的CAF失效问题;因板厚容易导致斜钻问题。 W1 O2 C( K" N2 K; [0 \
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