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pcb内层开路的原因？我们首先将造成PCB开路的主要原因总结归类为以下2个方面
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r; q7 H& J3 p1 W1 [9 U现将造成以上现象的原因分析和改善方法分类列举如下：
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一、露基材造成的开路：
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1、覆铜板进库前就有划伤现象；! O8 w0 A3 V1 U9 k$ u
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改善方法：覆铜板在进库前IQC一定要进行抽检，检查板面是否有划伤露基材现象；; s0 X* N7 q8 F3 ~
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2、覆铜板在开料过程中被划伤；
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改善方法：主要原因是开料机台面有硬质利器物存在，开料时覆铜板与利器物磨擦造成铜箔划伤形成露基材的现象，因此开料前必须认真清洁台面，确保台面光滑无硬质利器物存在。
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3、覆铜板在钻孔时被钻咀划伤；
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改善方法：主要原因是主轴夹咀被磨损，或夹咀内有杂物没有清洁干净，抓钻咀时抓不牢，钻咀没有上到顶部，比设置的钻咀长度稍长，钻孔时抬起的高度不够，机床移动时钻咀尖划伤铜箔形成露基材的现象。
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- ]+ P; `/ K9 R! u0 p" _a、可以通过抓刀记录的次数或根据夹咀的磨损程度，进行更换夹咀；
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b、按作业规程定期清洁夹咀，确保夹咀内无杂物。
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4、覆铜板在转运过程中被划伤；( i" v: \* M4 T7 Q
0 h! L E/ a K7 G/ ^改善方法：0 r% I) _2 N6 e, I; G& S, \2 ?
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a、搬运时搬运人员一次性提起的板量过多、重量太大，板在搬运时不是抬起，而是顺势拖起，造成板角和板面摩擦而划伤板面；6 |: v& P' i; ^
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b、放下板时因没有放整齐，为了重新整理好而用力去推板，造成板与板之间摩擦而划伤板面。" C# \, d" x) s! A. I' I6 o+ k
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5、沉铜后堆放板时因操作不当导致表面铜箔被碰伤；
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改善方法：沉铜后、全板电镀后储存板时，由于板叠在一起，有一定数量时，重量不小，再放下时，板角向下且加上有一个重力加速度，形成一股强大的冲击力撞击在板面上，造成板面划伤露基材。
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+ m4 L2 s( E$ h% L2 N- d6、生产板在过水平机时表面铜箔被划伤。
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改善方法：4 Q) U- L+ ?* Z: [8 K0 S
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a、磨板机的挡板有时会接触到板表面，挡板边缘一般不平整且有利器物凸起，过板时板面被划伤；* U/ c% a, V/ s
9 M. Y) B+ v) H1 D, \b、不锈钢传动轴，因损伤成尖状物体，过板时划伤铜面而露基材。$ Y6 @- W5 R8 W; X6 P
. `& {9 n+ Y3 T/ V1 l& Q综上所述，对于在沉铜以后的划伤露基材现象，如果在线路上是以开路或线路缺口的形式表现出来，容易判断；如果是在沉铜前出现的划伤露基材，又是在线路上时，经沉铜后又沉上了一层铜，线条的铜箔厚度明显减小，后面开、短路测试时是难于检测出来的，这样客户使用时可能会因耐不住过大的电流而造成线路被烧断，潜在的质量问题和所导致的经济损失是相当大的。
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二、无孔化开路：
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1、沉铜无孔化；
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改善措施：
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3 G; R, ~! F3 h6 C6 W& R5 }2 [* J# ?a、整孔剂造成的无孔化：是因整孔剂的化学浓度不平衡或失效。整孔剂的作用是调整孔壁上绝缘基材的电性，以利于后续吸附钯离子，确保化学铜覆盖完全，如果整孔剂的化学浓度不平衡或失效，会导致无孔化。- w1 y% u1 n ~' ~
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b、活化剂：其主要成份是pd、有机酸、亚锡离子及氯化物。孔壁要有金属钯均匀沉积上就必须要控制好各方面的参数，使其符合要求，以我们现用的活化剂为例：. w; w! F# t5 B) h3 R
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①、温度控制在35～44℃，如果温度低了造成钯沉积上去的密度不够，化学铜覆盖不完全；温度高了因反应过快，材料成本增加。
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1 H5 P' A( n& c- b* ^②、浓度比色控制在80%～100%，如果浓度低了造成钯沉积上去的密度不够，化学铜覆盖不完全；浓度高了因反应过快，材料成本增加。8 ]: T. l/ c1 \" E4 R4 N( X
* h3 i" i* c0 o7 f( Z" p③、在生产过程中要维护好活化剂的溶液，如果污染程度较严重，会造成孔壁沉积的钯不致密，后续化学铜覆盖不完全。
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}8 t0 d0 V. p- w1 T3 Pc、加速剂：主要成份是有机酸，是用以去除孔壁吸附的亚锡和氯离子化合物，露出后续反应的催化金属钯。我们现在用的加速剂，化学浓度控制在0.35～0.50N，如果浓度高了把金属钯都去掉了，导致后续化学铜覆盖不完全。如果浓度低了，去除孔壁吸附的亚锡和氯离子化合物效果不良，导致后续化学铜覆盖不完全。
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, G, n8 j4 b0 `0 ld、化学铜参数的控制是关系到化学铜覆盖好坏的关键，以我司目前所使用的药水参数为例：
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2 C4 l' Y8 L$ h①、温度控制在25～32℃，温度低了药液活性不好，造成无孔化；如果温度超过38℃，因药液反应快，铜离子释出也快，容易造成板面铜粒而返工甚至报废，这时沉铜药液要立即进行过滤，否则药液有可能造成报废。, n, K/ }& \, p: A% _
) F: b9 ?4 A) L/ ~6 d# h4 _②、Cu2+控制在1.5～3.0g/L，Cu2+含量低了药液活性不好，会造成孔化不良；如果浓度超过3.5g/L，因药液反应快，铜离子释出也快，造成板面铜粒而返工甚至报废，这样沉铜药液要立即进行过滤，否则药液有可能造成报废。Cu2+控制主要通过添加沉铜A液进行控制。
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* }; D$ I3 L. |& n③、NaOH控制在10.5～13.0g/L为宜，NaOH含量低了药液活性不好，会造成孔化不良。NaOH控制主要通过添加沉铜B液进行控制，B液内含有药液的稳定剂，正常情况下A液和B液是1：1进行补充添加的。' Z) f# k. I6 }+ {
5 @/ r( b+ T; J: a" _6 f C0 c④、HCHO控制在4.0～8.0g/L，HCHO含量低了药液活性不好，造成孔化不良，如果浓度超过8.0g/L时，因药液反应快，铜离子释出也快，造成板面铜粒而返工甚至报废，这样沉铜药液要立即进行过滤，否则药液有可能造成报废。HCHO控制主要通过添加沉铜C液进行控制，A液内也含有HCHO的药液成分，所以添加HCHO时，先要计算好补充A液时的HCHO浓度升高量。
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⑤、沉铜的负载量控制在0.15～0.25ft2/L，负载量低了药液活性不好，造成孔化不良；如果负载量超过0.25ft2/L，因药液反应快，铜离子释出也快，造成板面铜粒而返工甚至报废，这样沉铜药液要立即进行过滤，否则药液有可能造成报废。生产时第一缸板必须要用铜板进行拖缸，把沉铜药液的活性激活起来，便于后续沉铜产品的反应，确保孔内化学铜的致密度和提高覆盖率。
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( @ s- M0 s, p建议：为了达到以上各项参数的平衡和稳定，沉铜缸添加A、B液，应配置一台自动加料机，以更好地控制各项化学成份；同时温度也采用自动控制装置使沉铜线溶液的温度处于受控状态。
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发表于 2021-12-20 10:12
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