EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
随着电子设计朝轻薄方向发展,PCB制造工艺中的高密度集成(HDI)技术使终端产品设计更加小型化,同时满足电子性能和效率的要求。HDI目前广泛应用于手机、数码、汽车电子等产品。HDI盲孔底部裂纹等异常是高密度互连印制电路板可靠性问题之一,其影响因素多,在制造过程中不易被检测出来,业者称之为典型的灰色缺陷,往往到了终端装机后出现质量问题才发现,导致大额的索赔。: a& E1 N0 Q4 l' z7 I8 D* Q$ ^
, ?. `8 |7 r5 Z: P+ v
2 M! {- r5 F+ Y- h
01. 冷热冲击测试
. V: I* e8 x$ m$ I* }4 f针对PCB板冷热冲击测试,并检测电阻变化,对镀层失效部位可通过氩离子抛光或者FIB切割观察镀层间裂缝,镀层开路,孔壁分离等不良缺陷,为PCB板厂工艺改进指明方向。
9 g. `) t8 R: V1 F d( r7 K2 j, p- w, Q4 R
FIB-SEM观察盲孔镀层冷热冲击后存在盲孔底部裂纹异常 1 `/ k$ b0 S& q) n
02. 回流焊测试回流焊模拟SMT及返工状况,可有效测试镀层的热可靠性,可快速测试镀层是否有结合力不良,镀层开裂等缺陷,并对缺陷进行分析。7 A% S- d; d- ?6 F+ i3 M
. P2 P0 L( _* G$ y/ d6 K. f
无铅回流焊曲线 5 i! S8 v7 {& j; _2 q5 o& n8 x5 t
03. 镀层形貌及结晶金鉴实验室通过氩离子抛光后,场发射电镜可观察不同镀层的形貌,可直观判断镀铜层是否存在“柱状结晶”等严重影响镀层热可靠性的结晶状态。也可观察不同镀层间是否存在“空洞”、“ 裂纹”等不易监控到的异常。* R0 N* }0 ?6 P# x2 `2 C# C! F5 i
- o/ D9 _. ~, ]/ I6 x- c/ D通孔观察化铜层与电镀层间存在微空洞,电镀层正常结晶
* N! @3 ^% t9 \& i6 u! C2 \: M04. 镀层覆盖性化铜层作为孔内导通最为关键的工艺,其厚度约为0.3-0.5μm,常规背光覆盖性只能定性观察整体覆盖等级,针对出现孔无铜等异常时,经常不能通过背光等级来推断异常来源,如通过机械研磨后观察孔内覆盖性及厚度,化铜层存在损伤,无法准确判定化铜层的状态。金鉴实验室通过氩离子抛光后场发射电镜可观察到化铜层在玻纤、树脂位置的覆盖性,可为PCB厂化铜覆盖差异提供判定依据,也可为药水厂商研发阶段提供参考。
- k# z% j' [. u1 |0 j( v
" [% O! a2 w `: R
+ \8 @7 J1 Q7 j ~2 A J$ e盲孔离子抛光后观察化铜层在树脂部位和玻纤部位的覆盖良好
8 ^" T8 Y" f# I. a& B8 Z; k+ I2 f6 K) m' f: x# u9 j
7 `" S" p0 X* o, b |