概念:电容:无论空间有多远,任何两个具有电压差的导体都存在一定量的电容。
4 x7 S F/ D5 O0 f* MC:表示的是电容量,即存储的电荷与电压的关系的比值。当电压越大,可存储的电荷越多。$ [3 x% a+ A4 U* ^5 A
影响电容量因素:两个导体距离、两个导体重叠的面积、两个导体重叠面积之间的介质。
+ _ y( H7 w# U2 I距离越近、重叠面积越大、介质介电常数越大,则电容越大。; A$ a' s7 C5 ]8 i0 u$ |; e x
理解:减少互容的方式根本上为三条:1.拉开距离;2,减少空间上的重叠面积;3.选择低介电常数的板材;基本上PCB设计所采用的方式为1和2.3 |( a* Z9 G! j2 _8 J" c! j
电容中的电流
! s, o/ E3 v( ^5 h1 k7 L$ K$ y9 |流经电容器的电流 I= dQ/dt=C*dV/dt* P7 g1 H7 P3 H( i
I:表示流过电容器的电流;
8 ^2 m2 Q7 L6 Z. {' ?( l+ hd Q:表示电容器上电荷的变化量;- r# o3 a+ r1 e) M5 p, X6 B# Y1 F; U: D
dT:表示电荷变化经历的时间;
4 N3 a0 l- x/ s3 v( B* R `Dv:表示电压变化值;
( T3 Q" Q, b$ ~: ^& Y6 b3 p- CDt:电压变化所经历的时间。
& n& g# F, e, b! `/ ]/ S理解:其实电容除了漏电流的存在,本身并不流过电流。以上所说的电流,只不过为了计算方便而采用的数学值。从原理上考虑,因为异相相吸,在正电荷聚集的地方,肯定会有负电荷聚集。而负电荷的运动,造成了负极的电流流动。(负电荷的聚集造成了使流过电容的频谱呈-90相位)。从表面上看,就像电流流过电容器一样。但是理想电容器本身不消耗能量,所存储的能量,在外界适合的时候会向外送出,这时电容器负极也会将所聚集的负电荷释放。一收一放,就把能量传递过去了。
# ]# g* o3 ]4 g平行板电容' Z5 U; ^1 ]2 J
公式:C=E0Er*A/H C= (ε_r ε_0 A)/H C:电容量; E0空气介电常数;Er 介质相对介电常数;A,平板面积。
( R6 ~6 C$ C: @9 U( I2 |H平板间距。
/ g7 ^) D6 v( q$ U, B+ p% {由于板周围存在边缘场,实际电容要大于近似值,当平行板间距与板厚想当时,板周围的边缘场产生的电容量与平行板近似预测的电容量相当。* p, Z2 \& W9 I8 c
理解:考虑边缘场,就要从电场和磁场角度来考虑,由于板并不是理论上的厚度为0的理想状态,所以板的边缘肯定也会发出磁力线向周围空间扩展,当四边的磁力线被底板接收到时,就相当于增加了底板所接收的电场磁场。变相的增加了聚集电荷的能力,所以电容增加了。
* ~# b R! B+ }( l, \% S但这个值不好计算。
5 o& `! F1 Z- ^* Z( C7 I&……*%……&***去耦电容的计算:……&%……&%¥¥%
/ @* @: d b' h% K0 kδt=C*裕量*V^2/P t:表示电压下降量达到电源电压裕量的时间,单位秒;
$ ]& h/ h, L, }, A% v3 q- ?C表示去耦电容量,单位为F; 裕量:芯片的电源电压与最小供电电压的比值;, z8 z- B0 ~5 E! s8 |2 }
P表示芯片的平均功率;V表示电源电压。. G8 g9 p, p3 U) R
理解:本公式可以计算去耦电容的值,对于经验用法上的10UF去耦电容,可以省略了。直接用这个来计算所想要的确切的值,留出足够的裕量,那么一个小功率的芯片完全可以采用5UF或1uF 来去耦,即可以降低成本又可以减少PCB板上的空间。. m$ f/ K+ C. T
T 所表示的时间需要参考电源芯片,即电源芯片的反应时间。
+ ~, X( V/ }. ~) C( B8 {. T$ {通过上面的公式,即可以设计选型电源芯片的型号。( C4 H0 L0 _7 R8 l! `4 U1 [; G
单位长度电容。
! D+ E% I$ \: j4 i3 O, E单位长度电容是形容单位长度传输线的电容量。公式:C_L=C/L1 u4 {' @& n0 s# p4 R5 S
CL:单位长度电容 单位PF/in ;(单位可自己设定);
& }! [+ ~4 O) E) ~( s( eC:传输线与返回路径之间的电容量 ; L 传输线长度。( C, b. L* H& L @
' x& v7 N/ ~6 h" a
同轴电缆计算公式:CL=(2πε_0 ε_r)/(ln(b/a)) a:内部信号导体的半径;b:外部返回导体的半径。2 W2 y$ r: D6 m1 `
微带线计算公式C_L=(0.67(1.41+ε_(r )))/(ln{(5.98*h)/(0.8*w+t)})≈(0.67(1.41+ε_(r )))/(ln{7.5(h/w)})- t# y% Y/ F4 W6 j3 [9 _+ D
CL:单位长度电容,单位为PF/in; ε_(r ):表示绝缘材料的相对介电常数;
) o; Z" u3 y3 h" ~4 T! l) ah:表示介质厚度;单位为mil;w表示线宽单位为mil;
# |( J! S" Z3 z! P# Q# [2 j" ^* L& a t表示导体厚度单位为mil。- ], n% A" B$ X# ^
带状线计算公式C_L=(1.4ε_(r ))/(ln{(1.9*b)/(0.8*w+t)})≈(1.4ε_(r )))/(ln{2.4(b/w)}) k# v; _5 W$ i& M, F- `& U E
B:表示介质厚度;其余同上。
# V" a, e8 r. u; o5 G; V6 g1 I经验公式:微带线线宽如果是介质厚度的两倍即(w=2h)介电常数为4,则单位长度电容Cl=2.7pf/in 。这时微带线近视50欧姆特性阻抗。
Q. C* ?, j9 t6 ?2 S带状线:如果介质厚度是线宽的2倍,即b=2w;单位长度电容为3.8pf/in ;相当于特性阻抗50欧姆。
2 `: B- p9 }! l5 w: y& }经验法则:50欧姆特性阻抗单位长度电容大致为3.5PF/IN 。; F2 I/ U9 x- }& i' `% h# W
理解:特性阻抗的经验算法,只是大概。如果要是要求高精度,最好是实际测量,其次是计算。因为公式也是近视的。特别是板材的介电常数,随着制造工艺而有所不同。理论上裕量足够的情况下可直接采用理论算法来估计。
5 O& V* f# u% v! B n理解:微带线经常因为刷阻焊,或者由于蚀刻。导致介电常数和介质厚度都不是常量。所以特性阻抗仅仅能预估计。如果想要精确的阻抗控制,那传输线必须走带状线,否则制造不出完美的50欧姆特性阻抗的微带线。
/ x% I3 A5 f& }! m' x理解:电容量的值跟下平面接收电力线的多少有直接关系,与介电常数有直接关系。如果按照电磁场方向来看,即可完美理解电容量的变化。" `: M" M+ V- p: G# E$ s4 j/ ]
7 e7 R5 K" y+ }6 U5 Z, e& l* M
小结:
x! p2 |, M$ F# s1.电容是对两导体间存储电荷能力的度量。* N$ ]% B D( N: K" c5 S' p, P
2.电容量是对流动电流大小的度量。) G( d/ m6 k6 ~' F6 r
3.导体间的电压发生变化时,便有电流流过电容器。
- u) C$ z1 v# x1 u8 `1 h) E$ G4.本章的公式都为近似值,若要求精度为10%到20%就不应使用近似。
, Y9 n3 n! d$ B5.一般来说,导体间距越大,电容量越小;导体间重叠的面积越大,电容量也越大。
+ c, T( l8 m% d1 n7 i A" _6.介电常数是材料固有特性,它反映的是材料使电容量增加的程度。7 i; l$ e5 p4 K( I
7.电路板上的电源平面和地平面间是有电容存在的,但这个量非常小,两平面的作用是提供低电感回路,而不是提供去耦电容。/ ^. z% }. _ v" V" K+ w
8.若要求精度优于10%,就不应该使用IPC的带状线和微带线公式;" R! H4 c) r* H9 c# X
9.用二维场求解器,可以用来计算均匀传输线结构的单位长度电容。其精度优于1%;
6 v! |( r- _* i' L) |: \$ H. r10.若微带线的厚度增加,单位长度电容也将增加,但增加的幅度非常小。( }3 R! d/ B/ M. ?
11.当微带线的涂层厚度与线宽一致时,电容量将增加20%;
3 z' r3 V7 b, u; i4 b理解:IPC的公式精度为10%,在设计时能满足至少15%的精度。
) X2 I" m t5 y( U, }" F4 X微带线涂层假设不够厚时,电容量增加的并不是很严重。
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