TA的每日心情 | 开心 2023-5-15 15:25 |
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签到天数: 1 天 [LV.1]初来乍到
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布局要求8 w3 S( Q3 B( J' t8 q! q1 d
(1)地址线布局需使⽤Fly-by的拓扑结构,不可使⽤T型,拓扑到管脚的长度尽量短,长度在150l左右) d. i% j: F, _, r \
(2)VTT上拉放置在相应⽹络的末端,即靠近最后⼀个DDR4颗粒的位置放置;注意VTT上拉电阻到DDR4颗粒的⾛线越短越好,⾛线长度⼩于500mil;每个VTT上拉电阻对应放置⼀个VTT的滤波(最多两个电阻共⽤⼀个电容)
+ b6 V) B( d) H* U4 t5 ^(3)端和DDR4颗粒端,每个引脚对应⼀个滤波电容,滤波电容尽可能靠近引脚放置。线短⽽粗,回路尽量短;CPU和颗粒周边均匀摆放⼀些储能电容,DDR4颗粒每⽚⾄少有⼀个储能电容。( l8 m3 l2 Z, P: o$ e& l
阻抗控制4 P1 m* q2 P+ `7 e2 s- j R
(1)单端线:50ohm
+ u) M( m4 k* A$ A(2)差分线:100ohm' Z" g! {$ c* H2 w
带状线和平⾯ A% L( ~1 K/ A0 S) g0 v7 T
(1)除了从焊盘到过孔之间的短线外,所有的⾛线都必须⾛带状线,即⾛线$ X4 O1 {' a- D; R4 ?
(2)所有的内层⾛线都要求夹在两个参考平⾯之间,即相邻层不要有信号层,这样可以避免串扰和跨分割⾛线,⾛线到平⾯的边缘必须保持4mil以上的间距;
/ d: P2 U: Q! N2 r& [(3)数据线参考平⾯优先两边都是GND,接受⼀边地,⼀边⾃⾝电源,但是到GND平⾯的距离要⽐到电源平⾯的距离要近;对于地址线,控制信号,CLK来说,参考⾯⾸选GND和VDD,也可以选GND和GND。8 g) b* d& H( d0 d, M1 s
容性负载补偿
' m/ M% ^5 Q2 u. |( ^- F9 rflyby拓扑要求stub⾛线很短,当stub⾛线相对于信号边沿变化率很短时,stub⽀线和负载呈容性。负载引⼊的电容,实际被分摊到了⾛线上,所以造成⾛线的单位电容增加,从⽽降低了⾛线的有效阻抗。所以在设计中,我们应该将负载部分的⾛线设计为较⾼阻抗,最直接有效的⽅式就是减⼩⽀线线宽。经过负载电容的平均后,负载部分的⾛线才会和主线阻抗保持⼀致,从⽽达到阻抗连续,降低反射的效果。5 {( [6 W* A0 ]* t) j
PCB叠层设计5 @$ a5 J0 Y* p7 B! d
(1)所有的DQ线必须同组同层。
3 {' D! [5 i" M3 p+ p(2)地址线是否同层不做要求。
3 D' y* S' q/ Q/ d(3)为了减少过孔产⽣的Stub,强烈建议在同⼀层中优先布DQ, DQS,CLK等信号。如果所有的BGA都在top层,data线尽量的靠近bottom层⾛,⽽地址,控制线则可以靠近top层⾛;当BGA在top层时,越靠近bottom层,过孔产⽣的stub越短,信号质量越好。6 {$ R8 g: x) A2 v
⾛线线宽和线间距0 H' U1 ?6 w- L2 B
(1)线宽和线间距必须满⾜阻抗控制,即单端线50ohm,差分线100ohm。ZQ属于模拟信号,布线尽可能短,并且阻抗越低越好,所以尽可能的把线⾛宽⼀点,建议3倍50ohm阻抗控制的线宽;
, P( n. r2 `% Q+ B7 Q(2)DQ和DBI数据线,组内要求满⾜3W间距,与其他组外信号之间保持⾄少4W;2 m; R4 T5 Z( M* W
(3)DQS和CLK距离其他信号间距做到5W以上;' y# [2 o7 R' F' b
(4)在过孔⽐较密集的BGA区域,同组内的数据线,地址线的间距可以缩⼩到2W,但是要求这样的⾛线尽可能的短,并且尽可能的⾛直线;: W$ o2 \6 J X
(5)如果空间允许,所有的信号线⾛线之间的间距尽可能的保证均匀美观;9 {6 B- v2 u" y. ]
(6)内存信号与其他⾮内存信号之间应该保证4倍的介质层⾼的距离。) Q1 o% y. B, ^* I1 ?
等长要求
) ^# t$ f4 J2 p- m) V% R(1)数据⾛线尽量短,不要超过2000mil,分组做等长,组内等长参考DQS误差范围控制在+/-5mil;
3 [5 S y" a# n(2)地址线、控制线、线作为⼀组等长,组内等长参考CLK误差范围控制在+/-10mil;
& W$ q0 J; O# _% A/ N0 [(3)DQS、时钟差分线对内误差范围控制在+/-2mil;
& o' k' @" A3 k! N, u4 D(4)RESET和ALERT不需要做等长控制
$ @' u2 V3 @/ `6 [+ b7 H, O# i(5)信号实际长度应当包括零件管脚的长度,尽量取得零件管脚长度,并导⼊软件中;
G% R) m6 } q0 V+ ^- W, q/ n(6)因有些IC内核设计⽐较特别,按新品设计指导书或说明按参考板做,特别是,的芯⽚,请特别留意芯⽚⼿册要求;
/ K- U' x% B! v0 a) @电源处理
1 [& U' `/ Z3 b0 F5 V(1)VDD(1.2V)电源是DDR3的核⼼电源,其引脚分布⽐较散,且相对会⽐较⼤,需要在电源平⾯分配⼀个区域给VDD(1.2V);VDD的容差要求是5%,详细在JEDEC⾥有叙述。通过电源层的平⾯电容和专⽤的⼀定数量的去耦电容,可以做到电源完整性。
) \9 r9 R$ z( e. F N7 x4 \6 S(2)VTT(0.6V)电源,它不仅有严格的容差性,⽽且还有很⼤的瞬间电流;可以通过增加去耦电容来实现它的⽬标阻抗;由于VTT是集中在上拉电阻处,不是很分散,且对电流有⼀定的要求,在处理VTT电源时,⼀般是在元件⾯同层通过铺铜直接连接,铜⽪要有⼀定宽度(120mil)。. @4 v. o) b5 l7 `5 _" B& b
(3)VREF(0.6V)VREF要求更加严格的容差性,但是它承载的电流⽐较⼩。它不需要⾮常宽的⾛线,且通过⼀两个去耦电容就可以达到⽬标阻抗的要求。因其相对⽐较独⽴,电流也不⼤,布线处理时建议⽤与器件同层的铜⽪或⾛线直接连接,⽆须再电源平⾯层为其分配电源。注意铺铜或⾛线时,要先经过电容再接到芯⽚的电源引脚,不要从分压电阻那⾥直接接到芯⽚的电源引脚。 |
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