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SDRAM 扇出问题

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1#
发表于 2013-9-23 15:51 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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      大家帮我看一下,这些整齐的过孔是怎么做出来的,先是打两排过孔,做对齐后再拉出导线吗?还是自动扇出的?

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  • TA的每日心情
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    [LV.1]初来乍到

    2#
    发表于 2013-9-24 15:31 | 只看该作者
    手动扇出,养成设置大格点的习惯就OK了,12.5或者25的格点,打孔打到格点上。

    该用户从未签到

    3#
     楼主| 发表于 2013-9-24 16:54 | 只看该作者
    dingoboy 发表于 2013-9-24 15:31
    & V% S$ ^. U  `4 g+ E手动扇出,养成设置大格点的习惯就OK了,12.5或者25的格点,打孔打到格点上。

    8 v2 [, P) ], j8 c' T  ^应该是先拉出线来,再打孔吧 不拉线的话,via打不出来呀?
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    2020-1-8 15:27
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    [LV.1]初来乍到

    4#
    发表于 2013-9-24 17:02 | 只看该作者
    所谓的扇出,就是从焊盘拉一段线、打孔的操作。

    该用户从未签到

    5#
     楼主| 发表于 2013-9-24 17:22 | 只看该作者
    哦,明白了 ,谢谢呀

    该用户从未签到

    6#
     楼主| 发表于 2013-9-24 17:24 | 只看该作者
    dingoboy 发表于 2013-9-24 17:02
    # M. ]" M* B' M3 }) Z4 A& k所谓的扇出,就是从焊盘拉一段线、打孔的操作。
    % z2 C! Y! O4 z$ b: T
    还有一个问题,外层差分阻抗共面地模型在什么情况下使用,它跟外层差分阻抗模型区别是什么?现在画板子都很喜欢大面积的覆铜,信号层也是这样,比如说一个四层板,L1、L4为信号层,L2为GND,L3为VCC,布完线后L1、L4会大面积的覆铜,然后会打许多的地孔。L1、L4上走100欧姆的差分阻抗线,我想问我是用Edge-coupled Coated Microstrip 1B(外层差分阻抗模型)模型还是用Diff Coated Coplanar Stirps with Ground 1B模型(外层共面差分阻抗)呢?个人觉得通过大面积铺地应该是属于共面的阻抗,期待回复……
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    2020-1-8 15:27
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    [LV.1]初来乍到

    7#
    发表于 2013-9-24 17:34 | 只看该作者
    如果你只参考平面层去做阻抗计算,算不出你想要的阻抗值时,可以考虑用共面阻抗的模型。两种模型没什么太大区别,具体用哪种取决于你的线宽、线间距、介质厚度等等参数能否计算出你想要的阻抗值。
    - _# ^, X5 p% r" W通常共面阻抗模型在双面板用的比较多,因为双面板通常很难保证有一层完整的参考平面。9 D( r! U8 }: Z% F' Y
    至于表底层大面积铺地,这种处理是好的,但是注意铺地要离走线距离尽量大于25mil。因为铺地离走线25mil以上,就对走线的阻抗影响非常非常小了。当然前提是你的走线离内层参考平面距离较近。( {, L; G. r. Z/ R/ y* Y
    建议自己在si9000软件里模拟一下,在共面阻抗模型下,你先把共面的铺地跟走线的距离设置为8mil,然后逐渐增大,观察一下阻抗值的变化,应该可以大概得到一个规律。6 ~+ C+ e: Y1 o) `: q  y$ X* w6 C
    以上是我个人看法,仅供参考。

    该用户从未签到

    8#
     楼主| 发表于 2013-9-24 17:49 | 只看该作者
    dingoboy 发表于 2013-9-24 17:34! F# E3 V& F) @, b! U0 O8 x& t$ p
    如果你只参考平面层去做阻抗计算,算不出你想要的阻抗值时,可以考虑用共面阻抗的模型。两种模型没什么太大 ...
    # ?+ E7 N8 e+ x# J; X/ [
    好的,谢谢你,我试试

    该用户从未签到

    9#
    发表于 2013-10-23 20:36 | 只看该作者
    什么都是手动 fanout 好.
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