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DXP做多层板时候有两种做内电层的方法
1 a1 K1 X8 G V( I1:在layer stack manger里面选择 add layer( H0 P$ @8 i+ a' E; m$ ]% w# s
相当于增加一个布线层,然后在这个层里面大面积敷铜连接到网络3 R9 I4 o6 l Y7 J: K7 `
2:在layer stack manger里面选择 add plane
8 Y2 T0 `' [( w% N$ V7 x. A/ s 再进行内电层分割
O' H7 {8 i% I8 F" ^
$ }$ J4 w+ N2 |: ]6 I请问一般大家用那种呀?# K0 T- l3 l' Y
- w7 x( T$ U# ^/ k我看到有人用第一种的时候把铜膜设置为网状的hatched类型8 Y/ ~6 @0 L: n' b! `/ [, X: ]
想问下用add plane时候可以设置这样的铜膜类型不呢?! ]' }# }' H/ O2 _2 o( G* s
用那种类型的铜膜好点呢?
, E# Q* U, H6 O. r
- E K( N* \4 g) R7 Z$ D6 a还有用 add plane的时候该如何设置内电层的边界大小尺寸呀?+ T# B! L/ v7 x
没有看到相关的命令呀
9 [* [& w) N. {7 E9 Z! E6 N3 L: R0 f5 v8 ]
谢谢
. k- @- A* P. x, z; c/ D: ?非常感谢 |
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