TA的每日心情 | 开心 2019-11-29 15:39 |
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场效应晶体管或FET是晶体管,其中输出电流由电场控制。FET有时被称为单极晶体管,因为它涉及单载波型操作。FET晶体管的基本类型与BJT 晶体管基础完全不同。FET是三端子半导体器件,具有源极,漏极和栅极端子。 5 @7 _! r8 z# J- X
7 _$ b/ W0 z# Z) V5 a场效应晶体管
5 }. c( E1 e% t5 I! g : M3 E2 d& G% h6 V! q+ j0 D. B- U
电荷载流子是电子或空穴,它们通过有源沟道从源极流到漏极。从源极到漏极的这种电子流由施加在栅极和源极端子上的电压控制。0 D. h% Q0 w* |0 a8 C
$ x+ @& v( G3 M( @ {FET晶体管的类型- L |+ C6 d. _ G5 W
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FET有两种类型--JFET或MOSFET。+ g- C1 U/ V$ E( N, C) \0 s
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结FET
# e u2 K S6 y6 j8 t/ Z T; H) @5 W 3 p# ?2 h3 M9 q% i0 B
结型FET
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: F) z& h7 L" |& J结FET晶体管是一种场效应晶体管,可用作电控开关。电能流过源极与漏极端子之间的有源沟道。通过向栅极端子施加反向偏压,沟道变形,从而完全切断电流。
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6 K2 F* h6 R3 S, j结FET晶体管有两种极性:2 N: U$ E% B- ?6 a
/ W" a" b0 i; X2 m" B/ dN-沟道JFET
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( X. L9 U/ t3 p$ t4 M6 b' Z+ L$ QN沟道JFET
1 s+ O: b- k' w8 O! I! s" v & v$ K) z: v F" \) [( D
N沟道JFET由n型棒构成,在其两侧掺杂有两个p型层。电子通道构成器件的N通道。在N沟道器件的两端形成两个欧姆接触,它们连接在一起形成栅极端子。& l/ P. _+ Y: b' g1 `
' g# V7 [" V. A. ?) a0 o# [源极和漏极端子取自棒的另外两侧。源极和漏极端子之间的电位差称为Vdd,源极和栅极端子之间的电位差称为Vgs。电荷流动是由于电子从源极到漏极的流动。
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每当在漏极和源极端子上施加正电压时,电子从源极“S”流到漏极“D”端子,而传统的漏极电流Id流过漏极到源极。当电流流过器件时,它处于导通状态。
d9 A9 P0 }! u7 V" }! E# G$ A3 h ! G; i; W7 h1 p, N4 S" |' s) N- J
当负极性电压施加到栅极端子时,在沟道中产生耗尽区。沟道宽度减小,因此增加了源极和漏极之间的沟道电阻。由于栅极源极结是反向偏置的,并且器件中没有电流流动,因此它处于关闭状态。
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7 e T8 y" p$ h/ ~1 F% k0 o因此,基本上如果在栅极端子处施加的电压增加,则较少量的电流将从源极流到漏极。
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N沟道JFET具有比P沟道JFET更大的导电性。因此,与P沟道JFET相比,N沟道JFET是更有效的导体。* [& n8 B3 s4 \4 `& C1 R
6 U2 n' |. U& n$ v" D( y9 |% _! n
P沟道JFET: B5 h: b+ D' B
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trzvp2106P沟道JFET由P型棒构成,在其两侧掺杂n型层。通过在两侧连接欧姆接触来形成栅极端子。与N沟道JFET一样,源极和漏极端子取自棒的另外两侧。在源极和漏极端子之间形成由作为电荷载流子的空穴组成的AP型沟道。
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P沟道JFET棒
9 y' W3 n8 [+ T8 v& i- x . z' v L% I% k9 H( N; Y" R9 |
施加到漏极和源极端子的负电压确保从源极到漏极端子的电流流动,并且器件在欧姆区域中操作。施加到栅极端子的正电压确保了沟道宽度的减小,从而增加了沟道电阻。更正的是栅极电压; 流过设备的电流越少。# m6 A2 U& Y( l. V- Q( b9 A0 ^
0 m9 b8 ~* f& R$ }
p沟道结型FET晶体管的特性: k+ k" m' K% `: }; @6 a
- G' x3 ]1 j! _# ?; {% F( y下面给出p沟道结型场效应晶体管的特性曲线和晶体管的不同工作模式。2 ~$ b( B% l! |2 X+ p5 O% K
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p沟道结FET晶体管的特性0 g0 N9 M9 P; |5 Y3 k
; j0 I2 d; U$ H; J截止区域:当施加到栅极端子的电压足够正以使沟道宽度最小时,没有电流流动。这导致设备处于切断区域。
' k: _4 x1 E8 G' r) C1 J/ T$ _$ M
; N* n- T4 E* t, f欧姆区:流过器件的电流与施加的电压成线性比例,直到达到击穿电压。在该区域中,晶体管显示出对电流的一些阻力。
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$ u" f+ F/ N4 z5 `5 V! m S饱和区:当漏源电压达到一个值,使得流过器件的电流随漏源电压恒定并且仅随栅源电压变化,该器件称为饱和区。
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击穿区域:当漏极源极电压达到导致耗尽区域击穿的值,导致漏极电流突然增加时,该器件被称为击穿区域。当栅极源极电压更正时,对于较低的漏极源电压值,可以提前达到该击穿区域。
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% r" C& S" [2 q+ v# w4 A5 o2 ~' p! JMOSFET晶体管8 r# U8 `4 A& s, Q0 R( \$ f) p: y) \
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MOSFET晶体管3 F l# v! b& h$ w3 H
+ B$ X! y4 R, y5 W: `7 m
MOSFET晶体管顾名思义是p型(n型)半导体棒(具有扩散到其中的两个重掺杂n型区域),其表面上沉积有金属氧化物层,并且从该层取出空穴以形成源极和漏极端子。在氧化物层上沉积金属层以形成栅极端子。场效应晶体管的基本应用之一是使用MOS晶体管作为开关。) \) Q c2 ^" m+ J s
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这种类型的FET晶体管具有三个端子,即源极,漏极和栅极。施加到栅极端子的电压控制从源极到漏极的电流流动。金属氧化物绝缘层的存在导致器件具有高输入阻抗。 v1 ]. b- Y8 Y
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基于工作模式的MOSFET晶体管类型- N' \1 z) _. Q8 `0 O3 w, ~3 g
3 ?1 o) N8 x' n% H8 N% K0 A$ o$ ZMOSFET晶体管是最常用的场效应晶体管类型。MOSFET工作以两种模式实现,基于哪种MOSFET晶体管被分类。增强模式下的MOSFET工作包括逐渐形成沟道,而在耗尽型MOSFET中,它由已经扩散的沟道组成。MOSFET的高级应用是CMOS。* |; o$ o) s4 E6 A1 b
) d. u; s& B7 j9 Q" I$ J$ d0 }增强型MOSFET晶体管
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当负电压施加到MOSFET的栅极端子时,带正电荷的载流子或空穴在氧化物层附近更多地累积。从源极到漏极端子形成沟道。! z. X$ {1 Y5 O' p- G/ l% z
0 R, g8 s3 Z; d" {增强型MOSFET晶体管
- P' x3 o1 ]/ T8 a
! a! I. t. B: ~$ f5 q# d( N1 G. ?随着电压变得更负,沟道宽度增加并且电流从源极流到漏极端子。因此,随着施加的栅极电压的电流“增强”,该器件被称为增强型MOSFET。
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耗尽型MOSFET晶体管
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耗尽型MOSFET由在漏极 - 源极端子之间扩散的沟道组成。在没有任何栅极电压的情况下,由于沟道,电流从源极流向漏极。
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3 i5 g- l" F: {$ L1 L耗尽型MOSFET晶体管$ C1 j. j" ~% I9 c$ Z5 d0 p
, Y2 e% c" K0 R7 j, O当该栅极电压为负时,正电荷在沟道中累积。
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: f; ^+ q5 k; l4 y3 n; m这导致通道中的耗尽区域或不动电荷区域并阻碍电流的流动。因此,当耗尽区的形成影响电流时,该器件称为耗尽型MOSFET。
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2 D0 }: i7 t' m; K涉及MOSFET作为开关的应用
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. x) m- k& ~' c$ E g6 r) J控制BLDC电机的速度2 U$ I k+ s3 x
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MOSFET可用作开关以操作DC电机。这里使用晶体管来触发MOSFET。来自微控制器的PWM信号用于接通或断开晶体管。6 r9 A" E$ @2 {* S6 {. N* d/ e
~4 [1 J8 K+ q: {3 E控制BLDC电机的速度
- h, {; [% ]! P; f. P9 M0 W
) q, ~: r' w8 X/ `来自微控制器引脚的逻辑低电平信号导致OPTO耦合器工作,在其输出端产生高逻辑信号。PNP晶体管截止,因此MOSFET被触发并接通。漏极和源极端子短路,电流流向电动机绕组,使其开始旋转。PWM信号确保电机的速度控制。
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驱动一系列LED: % p H+ J1 }9 d1 i1 y
# }( V5 G% u b/ L; V驱动一系列LED0 O, B! M; C+ z3 E
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作为开关的MOSFET操作涉及应用控制LED阵列的强度。这里,由来自外部源(如微控制器)的信号驱动的晶体管用于驱动MOSFET。当晶体管关断时,MOSFET获得电源并接通,从而为LED阵列提供适当的偏置。
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- m) ^- q; u- T& F* l" i使用MOSFET开关灯: d9 j W9 A" G8 M# Z2 N3 Q) F
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使用MOSFET开关灯' D! ?2 g7 |; }# E
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MOSFET可用作开关来控制灯的开关。此外,MOSFET也使用晶体管开关触发。来自外部源(如微控制器)的PWM信号用于控制晶体管的导通,因此MOSFET接通或断开,从而控制灯的开关。
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