芯片光刻时，为何出现光刻效果不好？

Ｄ.H · 发表于 2021-3-3 13:05

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芯片光刻时，为何出现光刻效果不好？

srilri2 · 发表于 2021-3-3 13:55

显影是很关键的一部,显影液和光刻胶是接触式的反应,也是从上而下的作用。常用浸泡式和喷洒式。

zmmdmn · 发表于 2021-3-3 14:24

涂覆的膜层比较薄,厚度均匀性也比较好,负胶比较厚,正胶的分辨率高于负胶,刻蚀工艺常用正胶、负胶做lift-off工艺较多。一般负胶也比同级别的正胶贵上不少。因此能用正胶的地方还是用正胶比较好。

Ｄ.H · 发表于 2021-3-3 14:25

srilri2 发表于 2021-3-3 13:55
$ o, B3 ]& v7 [' Q; s5 B$ m' ^, ~显影是很关键的一部,显影液和光刻胶是接触式的反应,也是从上而下的作用。常用浸泡式和喷洒式。

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