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IC 概念0 e# v7 T0 X# _1 H4 u3 B( |" ^
IC - Integrated Citcuit 积体电路. 也翻译成集成电路。
( h3 ?4 w. n9 D9 {+ Y3 d+ x* @百科的解释是:+ ] d( d. F2 X1 J& K9 a9 G
是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构" C* V* w4 \) r' a4 ~% y6 J
/ A( X: D! e* l7 _, l j0 D @: I
芯片终端产品的研发生产流程
! ]8 |* G2 i, j, `( _7 T8 m比如手机,一般的流程如下:
9 D2 ^) _9 i( I4 u3 w# ?: f- 芯片公司设计芯片1 y; m3 I/ o; a- l: U
- 芯片代工厂生产芯片
0 t) J3 r* j7 B* s0 L- 封测厂进行封装测试
3 }5 p7 }1 k) q( @ w) t- 整机商采购芯片用于整机生产0 P1 i. P& K1 h# T' |# d$ s
( t5 |; w) D' G8 H" {$ Z芯片本身的研发生产过程8 B! J) J5 e9 {$ ~4 G/ t. C& z3 G! U' ~
缩小一下范围,芯片本身的研发生产的主要过程包括:$ ]5 O4 s/ G% j7 ~4 O5 K
1. 设计应用系统, 主要考虑如下部分:
1 V# v/ Y. D8 c芯片功能和性能指标的要求
" B# p$ `8 ~8 {* ^6 ~# m- D5 y功能集成还是外部实现
9 z j& J7 g3 U: n& e: m# O芯片工艺以及工艺平台/ k4 Z% q: W, ~" n. q
管脚数量; V) V3 k1 C; v3 o; D- \- t- W* s
封装形式
( g) X. | h; O4 l8 x0 l) h5 ~( Y+ C. G5 s, B# ~# O2 ^; _% a, z
系统开发和原型验证# h) q) q5 o% c) }
数字系统
# z4 |) ^7 G$ M( T( ]' y模拟芯片
1 ^/ y t: d( q2 U* v# K! K; `9 w1 ^% T, Q- F; J: H3 L
芯片版图设计实现1 F1 R9 a" K$ j' ~+ z# R3 [
数字后端与模拟版图拼接
0 \5 |, t6 K" L. t! f( c8 H% Y9 y/ f. A! |8 P
生成GDS文件,交给代工厂。- tapeout- x6 k0 M, `7 x) B
像流水线一样通过一系列工艺步骤制造芯片,这就是流片2 r0 W" H5 W! E% K F2 N
在集成电路设计领域,“流片”指的是“试生产”,就是说设计完电路以后,先生产几片几十片,供测试用。如果测试通过,就照着这个样子开始大规模生产了6 R% B( \6 Q. [4 K z
) ?% w- v1 A0 u+ d9 f制版+ i7 K ]" \( v" E
# M1 A: ], ?& j4 s7 J& S5 y5 K) S6 `晶片加工
6 U- H2 o" W) {2 i8 a) ?- E( M, f( O
晶圆测试
- h7 s1 M1 M6 D( f& J5 G0 ~- {$ r4 N% x
封装8 r- P- d) [. I5 b
减薄、贴膜、划片、粘片、打线、注塑、切金、烘干、镀锡等
' p0 I1 v7 r& D5 U, q- d+ v' e4 C _$ N& V$ o$ N; p j
成测; Z- F( c" W4 d+ }
; F0 n: Z: v0 a# C- D以上的9个过程切分程1-4, 5-9两个阶段, 对应到的是两类不同的芯片生产商,这个后面会再介绍。 随便提一下,只进行芯片设计的企业,这样的企业叫做Fabless, 其主要的工作流程也就是1-4。 以下再展开来说。
0 `: C: V# o( K% f9 N, n, z5 ~* n: j9 G- c
芯片设计过程与步骤( J; p) w3 `7 C; Y2 t& H) N
芯片设计的主要过程如下图:
0 Q4 S2 d. y* X5 V( J# d2 k1 u' v; c! `
+ h" U- p& I6 L% C订定目标6 u3 H$ ] G I# e5 }+ {$ T* h1 u
设计芯片, ^& q2 D/ i, \9 g
使用硬体描述语言(HDL),像Verilog,VHDL等4 x [& }3 v# B; |! Q$ x1 d
逻辑合成 f' [/ m- T' {6 S5 W1 Q! L
将HDL Code放入电子设计自动化工具(EDA tool), 转换成逻辑电路,产生电路图
9 t$ [* z; C1 Y; ?4 s电路布局与绕线% g9 P+ G! ^) j8 N
使用另一套EDA tool.
3 |* i) r6 N5 O: }- l* X5 u. I; y不同的颜色代表着一张光罩。6 I/ U0 s0 A& v6 R D
下图中, 左边是经过电路布局与绕线后形成的电路图,不同颜色代表一张光罩。右边是每张光罩摊开的样子。
. I( K: k6 z8 m
; O$ ]* T* J& X芯片供应商1 O6 t( z5 J; \7 E/ n U$ t
IDM : 集芯片设计、制造、封装和测试等多个产业链环节与一身的企业。( q1 r( W) u! E8 m) ]
如: Intel, 三星,IBM
) v! M3 l3 [( f* P B3 G
l; T# K {' ~9 t' kFabless: 没有芯片加工厂的芯片供应商。相关的业务外包给专业生产制造厂商:
$ F9 t/ \7 D& i2 K; }" \3 F如高通、博通、联发科
0 p7 j- Z- n' ~. n; }# n* |3 z9 Y; w5 [/ F7 E+ F
与Fabless对应的是 Foundry(晶圆代工厂)和封测厂。承接Fabless的生产和封装测试任务。* T/ `! [0 t. s/ M5 z) ^( y7 G
典型的Foundry: 台积电(TSMC)、格罗方德、中芯国际、台联电
~' n; x4 x2 X6 }; G1 ~1 |封测厂: 日月光, 江苏长电等
" h6 g% ]7 U; V" }- k8 t* F, ^! O- ?7 I" P
制程与封装& p) |0 _" X( a/ M o
最常听见的就是纳米制程的概念了。
5 t3 X) Z0 j& M' O; A在数学上,纳米是 0.000000001 公尺
% r9 j' x% v: q3 D& _) m8 v1 g) o* m' t) O W2 N. C
纳米制程是什么,以 14 纳米为例,其制程是指在芯片中,线最小可以做到 14 纳米的尺寸,
7 ]1 f0 k( W+ \+ X9 M" v7 y# ]1 U
% G5 U7 x* w" l* Y; i, u缩小制程的用意,缩小电晶体的最主要目的,就是可以在更小的芯片中塞入更多的电晶体,让芯片不会因技术提升而变得更大;其次,可以增加处理器的运算效率;再者,减少体积也可以降低耗电量;最后,芯片体积缩小后,更容易塞入行动装置中,满足未来轻薄化的需求。6 j5 F. U0 k& i2 ?$ o% ^8 ] w
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封装方式:$ {; C, J: a0 O3 @- o2 s4 i+ w* D
1. Dual Inline Package;DIP 双排直立式封装
' K M2 C$ D, V最早采用的IC封装技术, 成本低廉, 适合小型且不需接太多线的芯片。0 \$ w+ S$ Z1 d: H' n( R* F
散热效果差,无法满足先行高速芯片的要求。
) }/ ^' x h, a! K0 e- n2 Z常见于电动玩具: _: i; I& p% w5 @0 B: }) K& q
" J% ^. L4 P4 d0 u* T8 G
Ball Grid Array, BGA 球格阵列封装0 @. @, l+ K* e7 ?' E* ^
' r6 N2 n1 n4 J, R" f' C可容纳更多的金属接脚。 成本高连接方法较复杂。$ E# k. I% A8 Q" U( ]# c, N
( J9 t' o- i# J常见于电脑CPU7 e( E6 Z3 R- b" U
% f# {& ^4 p' d/ G/ c$ M; e2 F一些其他概念/ s6 H) F6 g4 ]2 m, i0 L
Wafer - 晶圆, 可以想象成一些尺寸大小不同的圆形玻璃片。0 ~5 k9 {5 |/ M6 S6 n0 M1 A
- l- L6 C2 V2 e3 T, y
对Wafer切割,就成了Die, die 经过封装成Chip.- V# Z: }9 |) m( q r/ ?
& Y; Q' Q4 R( |4 m$ NSoC - System On Chip
9 B& k& g- e6 p8 y- z2 `' \SiP - System In Package
' ~6 T4 r0 n# k$ a o0 b( K5 _- v" D# G! u
Soc : 将原本不同功能的IC,整合在一颗芯片中。可以缩小体积, 缩小不同IC间的距离。 提升芯片的计算速度。! G, N8 _+ o6 }7 R
0 k' Q5 _" h" i# nSiP: 购买各家的IC, 一次性封装这些IC. Apple Watch.3 ?7 N8 O9 s- m9 R. E6 P( Z
7 V) V2 R: k5 C& ~ w- r1 `
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