亚微米CMOS工艺制程技术流程

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1. 衬底选材
2. 清洗
3. 生长初始氧化硅
) d9 i, Y9 o7 a4. 晶圆刻号
5. 清洗
6. 第零层光刻处理
7. 第零层刻蚀处理
8. 去光刻胶
% S! @! [) u( t9. 去除初始氧化层


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CMOS工艺

瞪郜望源_21

不错不错，很是专业和深度，内容全面丰富，学习下