集成电路制造工艺课件

Get123

几种常见的光刻方法
: E9 T: ~* `. i; t- I1 p接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。
接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(10～25m)，可以大大减小掩膜版的损伤，分辨率较低
投影式曝光：利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的曝光方法，目前用的最多的曝光方式
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nevadaooo

现在我们的光刻机28nm还没有

瞪郜望源_21

不错不错，很是稀饭和专业，学习下

joyce321

看看有没有用
7 N! y4 F) }1 O

carriewu

学习学习

awei1981

集成电路制造课件

Andy311

学习

chenrunquan

感谢分享
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