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三晶片電源封裝的簡化熱模型

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发表于 2015-2-25 11:40 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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本帖最后由 pjh02032121 于 2015-2-26 23:10 编辑 % k* H" \  d# O( s
" Y- A+ q0 g3 t
2015年02月24日  | Chong-Sheng Wang、Danny Clavette和Tony Ochoa! Q- T: k! y  `" O: }. E
" G4 M. @$ r1 t* x
電子系統的熱管理對很多電子應用越來越重要,包括電腦、電信設備與半導體元件,以及航太、汽車和消費電子。電子系統熱模擬需要電子封裝的簡化熱模型Compact Thermal Models; CTM)。CTM不會透露封裝的IP資訊,是電子封裝製造商進行熱評估的首選。另一方面,CTM的元件比詳細熱模型(Detailed Thermal Model; DTM)少,因此需較少的運算時間執行熱模擬。
: e! T) V  p" J! Y9 M
" t+ R- D9 b% a: b: ]

1989年,透過擴展結到外殼熱阻測試方法,創造了從電子封裝結到各個不同外表面的熱阻網路[參考文獻1]。1995年,DELPHI聯盟發表第一篇關於邊界條件獨立模型的論文[參考文獻2]。之後,大量與該主題有關的論文相繼發表。JEDEC還發佈了DELPHI簡化熱模型指南[參考文獻3]和雙電阻簡化熱模型指南[參考文獻4]。但是包括這兩個JEDEC標準在內,很多與該主題有關的早期出版物都只針對單晶片封裝。


# h+ c  E) g0 t$ t) A7 v

IR SupIRBuck穩壓器的CTM可以準確提供三晶片封裝溫度預測。這些CTM是邊界條件各自獨立。意味著,在邊界條件改變時(例如有、無散熱器或者封裝下的PCB佈局不同),CTM能夠預測結溫上升,與DTM的差異在5%或更低。

6 v  [( `5 I2 Z. I

這些CTM同時也不受封裝內功率損耗分佈的影響。典型的SupIRBuck穩壓器打線接合如圖1所示,其中Q1為高端FET,Q2為低端FET,IC為控制IC。依應用不同,這三個晶片之間的功率損耗分佈也不同。例如,開關頻率較高時,Q1增加的功率損耗比Q2多。輸入與輸出電壓和電流不同,對Q1與Q2的功率損耗的影響也不同。我們用功率損耗比Q1/Q2和總功率損耗Q1+Q2來表示Q1與Q2之間不同的功率損耗分佈。依應用不同,IC的功率損耗變化相對較小。對於不同的功率損耗分佈,SupIRBuck穩壓器的CTM還比DTM更能準確預測晶片溫度。

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) a, S$ ^# }8 ?$ H圖1:SupIRBuck穩壓器的典型打線接合示意圖。
$ V2 T& A$ R7 o6 h- k
簡化熱模型構造
) a# L8 V/ J( i2 A, p

簡化熱模型由三部分組成:導線架 (Lead-frame)、頂模 (Top Mold)和二者之間的模型核心 (Mold Core),如圖2所示。導線架為金屬件且部分採用普通模型材料;頂模由普通模型材料製成。


& P; O4 Z) o0 n9 s
8 s. ~  J$ R6 c, b
0 u' i( m6 D7 O! T0 U
圖2a:SupIRBuck穩壓器的簡化熱模型。

; ]7 H  d5 z- x$ ?
1 e$ {& j) u: k; M2 u9 L1 e
) C. y  G% H5 f, L  r
圖2b:簡化熱模型的側視圖。
/ K; y; ~1 r/ Y: h# j

模型核心實際上是一個熱阻網路,連接三個虛擬結點、頂模和導線架,如圖3所示。在各個封裝的熱分析基礎上,利用ANSYS Icepak普通網路工程創建熱阻網路。這三個結點代表封裝內的三個晶片。


7 S2 m; U  W( b% R3 s; h; W- y
  ]& U$ S, M4 Y! ^

9 s- t; U5 s: p9 c6 _( B圖3:簡化熱模型的模型核心。
結果與對比3 q) o* o  Y4 y8 D

利用ANSYS Icepak取得CFD(計算流體動力學)範例模型之模擬結果見下表,以CTM和DTM封裝的對比形式呈現。模擬方式利用封裝模型安裝在詳細PCB熱模型上完成。模擬結果與實際測試資料相符,從而驗證對比所用的DTM封裝有效。


- h; |  F5 N# }! Z正常邊界條件對比:

第一組是在應用的正常條件下利用評估板對比有和無散熱器時Q1與Q2之間不同的功率損耗分佈。表1中,Q1+Q2和IC的功率損耗分別為2.6 W和0.32 W,入口處的氣流速度為200 LFM,環境溫度為25°C,Q1/Q2是Q1和Q2的功率損耗比。鋁製散熱器尺寸為寬W x長 L x高 H = 13mm x 23mm x 16mm。三個晶片中的最高溫度被視為封裝的結溫,在表中以紅色數值表示。藍色數值表示給定模擬下較低的元件溫度。


3 {7 O* n9 G' F3 D, t

三個晶片的CTM和DTM預測吻合程度良好,最大結溫上升差異僅0.8%,其他晶片的溫度上升差異則在2%以內。當功率損耗比Q1/Q2從1.6變為0.625時,CTM溫度預測準確度幾乎保持不變。有無散熱器,CTM的預測準確度也幾乎保持不變。

; }* ^. K/ z7 Q( g
極端邊界條件對比:

第二組對比針對封裝下焊料的部份極端條件。除了正常的焊料體積外,圖4也介紹兩種極端情況:一個是Q1下方的焊料有孔洞,另一個是Q2下方的焊料有孔洞。焊料孔洞在大批量生產過程中可能會出現,然而這些極端的孔洞條件只在生產過程有問題時發生。孔洞造成很難將熱量從上述晶片上傳遞至PCB。

) l4 `  I. W; {
6 G$ y8 ~: X. t
圖4:封裝下的焊盤孔洞。
! Y0 [! e0 \/ f. B

表2呈現有和無散熱器時這兩種焊料孔洞情況下的CFD模擬對比結果。這四種情況對比中Q1/Q2=0.625。

$ |6 }" T: B* w
& \8 m' Z7 ^" _. ^6 L

上述極端焊料孔洞實例對比中,CTM和DTM的吻合程度良好,最大結溫上升差異為3.2%,其它晶片溫度上升差異在1.4%以內。


$ i2 `1 q; L6 j, x+ U- Q7 y

圖5顯示出DTM和CTM的PCB溫度分佈幾乎完全相同。這也顯示,在熱模擬方面,CTM能夠替代DTM。


3 J% g5 l! |) G6 V

8 O& b0 E( z% [( y* ]# Y圖5:實例3中DTM(左)和CTM(右)的PCB溫度。

. ~, x; N$ @, X討論
( J! V6 A7 c8 z9 G1)不同的封裝下PCB佈局:

表2的第二組對比可視為極端PCB佈局情況的對比,其中Q1或Q2因佈局設計欠佳造成封裝下散熱不良。因此,該對比也顯示出CTM不受不同PCB佈局的影響。

# W# m+ I- ~: w
2)模型驗證和誤差估計:

結果顯示CTM不受邊界條件的影響,也不受Q1和Q2之間功率損耗分佈的約制。因此,該模型對比所採用的實際情況足以在實際應用中進行模型驗證。同時,該對比還可作為誤差估計參考。

( `% w# |% `" P& K3 ?2 R! U
3)進一步簡化:

在初始模擬條件下,與DTM相比,SupIRBuck穩壓器的CTM將元件數量減少了一半以上。對於終端使用者的系統模擬而言,可以透過雙電阻CTM來實現進一步簡化。PCB佈局完成時,封裝下分佈的熱阻將會固定,可透過將其結果與SupIRBuck穩壓器的CTM相匹配,來生成一個專門針對該PCB和固定晶片功率損耗分佈且精準的雙電阻CTM。


" M# V: n; }3 e結論

SupIRBuck穩壓器的CTM具有很高的邊界條件獨立性和晶片功率損耗分佈獨立性。可在單次模擬中準確預測三個晶片的溫度。

SupIRBuck穩壓器的CTM和DTM對比採用一組實際邊界條件,可用於模型驗證和誤差估計參考,實現良好的吻合程度。正常邊界條件下最大結溫上升差異為0.8%,而極端邊界條件下為3.2%。

在初始CFD模擬中,與詳細熱模型相比,SupIRBuck穩壓器的CTM將元件數量減少了50%以上。終端使用者可有效運用生成雙電阻CTM,進一步簡化系統模擬。



- {9 i4 I, D3 m* E. D; x! K致謝/ m* X% Q2 j7 O

作者非常感謝ANSYS工程師的技術評析與回饋、IR的Ramesh Balasubramaniam提供的評析與回饋及IR的Wenkang Huang在文獻搜集方面給予的莫大幫助。


7 b* O1 _( e; ]: {
' ~6 {/ E& S! h* v& D% o
參考文獻
$ ~7 X/ ~- f/ D. B

[1] A. Bar-Cohen, T. Elperin, and R. Eliasi, “Theta_jc characterization of chip

packages-justification, limitations, and future,” IEEE Trans. Compon., Hybrids, Manufact. Technol., vol. 12, no. 4, pp. 724–731, Dec. 1989.

[2] Lasance C., Vinke H., Rosten H., Weiner K.-L., “A Novel Approach for the Thermal Characteri-zation of Electronic Parts,” Proc. of SEMITHERM XI, San Jose, CA, pp. 1-9 (1995)

[3] JEDEC Standard “DELPHI Compact Thermal Model Guideline,” JESD15-4, October 2008

[4] JEDEC Standard “Two-Resistor Compact Thermal Model Guideline,” JESD15-3, October 2008


) n, X) i3 d9 P# Z( t0 F  ]

註:ANSYS和Icepak是ANSYS公司的注冊商標。

- See more at: http://www.edntaiwan.com/ART_880 ... thash.XVSV3tR3.dpuf
4 F$ u/ c! T: [7 Y4 Q* _& `* }1 B

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2#
发表于 2015-2-26 13:25 | 只看该作者
LZ 有些图表看不到,不知道是不是网络问题,

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3#
 楼主| 发表于 2015-3-2 20:38 | 只看该作者

# \1 b4 y. [. _0 @这么好的帖子没人顶: \& Z( z8 o9 e) a' W

+ t' n: _7 f( u& P估计都不知道dephi模型是什么,也不了解它的优点。4 G+ h) U0 D  S6 \0 h
好了,我把标准文件共享,e文原版的,做芯片的做封装的做热的都可以多了解了解。 JESD15-4 DELPHI Compact Thermal Model Guideline.pdf (503.87 KB, 下载次数: 19)
, S- K/ M: h7 u" m! V0 k: \* d

该用户从未签到

4#
发表于 2015-3-4 10:26 | 只看该作者
好帖子,我来帮你顶!
  r" A, K2 H1 d7 W
) c; e! n% S! r. g$ ]2 E有两个问题请教:
: @7 _, P! }! ]. p1、IC die(Q3)上的热耗分布极不均匀,其Tj如何考虑?
+ _/ [: Q) w9 O2 u3 L: g2、热阻网络是如何得到的?

点评

1.芯片表面功耗分部不均,实际情况确实如此。redhawk可将芯片的功耗分布提取出来,导入到icepak中进行热仿真,这样做更符合实际。由于芯片的导热系数相对较高,不管是均匀热源还是分布热源,整个芯片表面的温差是很  详情 回复 发表于 2015-3-4 14:51

该用户从未签到

5#
发表于 2015-3-4 10:33 | 只看该作者
如何方便的话,可以电话讨论一下。

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6#
 楼主| 发表于 2015-3-4 14:51 | 只看该作者
coffcy 发表于 2015-3-4 10:26
! p8 |! k4 m3 z; g7 n0 U! y好帖子,我来帮你顶!
; B; B$ f( t9 q# z# \3 `7 I4 J1 }7 n1 ?9 E2 t; @
有两个问题请教:
+ `3 ^/ S. E, M
1.芯片表面功耗分部不均,实际情况确实如此。redhawk可将芯片的功耗分布提取出来,导入到icepak中进行热仿真,这样做更符合实际。由于芯片的导热系数相对较高,不管是均匀热源还是分布热源,整个芯片表面的温差是很小的,所以Tj结温都是把芯片均匀处理。
; l+ A  D$ a- w0 |1 z! D; A3 d  T2 L: q' @, |7 \7 }' U. h
2.这里的热阻网络,就是dephi模型。
* n" v& l" Y6 E# K) u2 L8 b5 g看看那个JEDEC文件吧,这玩意完去是仿真做出来的,上百种边界条件,也不可能通过实验来做。0 e( M; t9 J. Y) J4 J6 l+ H3 _

该用户从未签到

7#
发表于 2015-3-6 13:43 | 只看该作者
目前我遇到几个芯片,芯片壳温,就是Lid的温度,都有个十几度。。。
  • TA的每日心情

    2024-1-19 15:48
  • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到

    8#
    发表于 2015-4-12 11:13 | 只看该作者
    我每次用icepak仿真计算芯片温升或Tj时,均不是按JEDEC标准中模型进行的,我讲模型简化为IC+PCB,进行仿真,不知这样仿真与实际的差别大不大。
  • TA的每日心情
    开心
    2020-1-8 15:57
  • 签到天数: 3 天

    [LV.2]偶尔看看I

    9#
    发表于 2015-4-14 08:53 | 只看该作者
    学习了  挺详细的
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